[发明专利]用于射线摄影的栅格、射线图像检测器、射线成像系统以及用于制备栅格的方法

权利要求书

1.一种用于射线摄影的栅格，所述栅格包括：

由非线性单晶制成的多个射线透过部分；和

与所述射线透过部分交替排列的多个射线吸收部分。

2.根据权利要求1所述的栅格，其中所述射线透过部分掺杂有荧光体并且在施加射线时发射光。

3.根据权利要求1所述的栅格，其中所述射线透过部分和所述射线吸收部分是倾斜的，使得从所述栅格后面入射的射线会聚到所述射线的焦点上。

4.根据权利要求1所述的栅格，其中所述射线吸收部分和所述射线透过部分在第一方向上延伸，并且在与所述第一方向正交的第二方向上交替排列。

5.一种射线图像检测器，所述射线图像检测器包括：

栅格，所述栅格包括多个射线透过部分和多个射线吸收部分，所述射线透过部分由掺杂有荧光体的非线性单晶制成以在施加射线时发射光；和

光检测器，所述光检测器用于检测从所述栅格发射的所述光。

6.根据权利要求5所述的射线图像检测器，所述射线图像检测器还包括：

扫描装置，所述扫描装置用于使所述栅格在所述射线吸收部分和所述射线透过部分的排列方向上以预定间距移动。

7.一种射线成像系统，所述射线成像系统包括：

射线源，所述射线源用于发射射线；

第一栅格，所述第一栅格用于使来自所述射线源的所述射线通过以形成第一周期性图案图像，所述第一栅格包括交替排列的第一射线透过部分和第一射线吸收部分，所述第一射线透过部分由非线性单晶制成；

强度调制装置，所述强度调制装置用于在与所述第一周期性图案图像异相的至少一个相对位置，对所述第一周期性图案图像施加强度调制以形成第二周期性图案图像；

射线图像检测器，所述射线图像检测器用于检测所述第二周期性图案图像；以及

计算装置，所述计算装置用于基于由所述射线图像检测器检测的所述第二周期性图案图像将所述射线的相位信息成像。

8.根据权利要求7所述的射线成像系统，其中所述强度调制装置包括：

第二栅格，所述第二栅格具有交替排列的第二射线透过部分和第二射线吸收部分，所述第二射线透过部分由非线性单晶制成；以及

扫描装置，所述扫描装置用于使所述第一栅格和第二栅格中的一个在栅格结构的周期性方向上以预定间距移动，以将所述第一栅格和第二栅格设定在所述相对位置。

9.根据权利要求7所述的射线成像系统，所述射线成像系统还包括：

第三栅格，所述第三栅格被设置在所述射线源与所述第一栅格之间，用于部分地阻挡从所述射线源发射的所述射线以形成许多线光源，所述第三栅格包括交替排列的第三射线透过部分和第三射线吸收部分，所述第三射线透过部分由非线性单晶制成。

10.根据权利要求7所述的射线成像系统，其中所述射线图像检测器包括：

(A)第二栅格，所述第二栅格具有第二射线透过部分和第二射线吸收部分，所述第二射线透过部分由掺杂有荧光体的非线性单晶制成并且在施加所述射线时发射光；

(B)光检测器，所述光检测器用于检测从所述第二栅格发射的所述光；并且

所述强度调制装置是扫描装置，所述扫描装置用于使所述第二栅格在所述第二吸收部分和所述第二透过部分的排列方向上以预定间距移动。

11.一种用于制备用于射线摄影的栅格的方法，所述方法包括以下步骤：

将多个第一电极形成在经过极化处理后的非线性单晶基板的第一表面上；

将电压从与所述第一表面相反的第二表面侧施加至所述非线性单晶基板上，以使所述非线性单晶基板的面向所述第一电极的部分的极化方向反转；

蚀刻所述非线性单晶基板，并且通过利用所述未反转部分与所述反转部分之间的蚀刻速率的差别，移除其中未发生极性反转的未反转部分，同时保留其中已发生所述极性反转的反转部分；以及

将射线吸收材料充填至移除所述未反转部分之后留下的空间中。

12.根据权利要求11所述的方法，所述方法还包括以下步骤：

用荧光体掺杂所述反转部分。

13.根据权利要求11所述的方法，所述方法还包括以下步骤：

将第二电极以与所述第一电极的周期性不同的周期性形成在所述非线性单晶基板的所述第二表面上，所述电压被施加至所述第二电极上。