[发明专利]带有矩形电感耦合线圈的刻蚀装置有效
| 申请号： | 201110443196.8 | 申请日： | 2011-12-26 |
| 公开（公告）号： | CN103177920A | 公开（公告）日： | 2013-06-26 |
| 发明（设计）人： | 张城龙;张海洋 | 申请（专利权）人： | 中芯国际集成电路制造（上海）有限公司 |
| 主分类号： | H01J37/04 | 分类号： | H01J37/04;H01J37/305 |
| 代理公司： | 北京市磐华律师事务所 11336 | 代理人： | 董巍;顾珊 |
| 地址： | 201203 *** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 带有 矩形 电感 耦合 线圈 刻蚀 装置 | ||
1.一种等离子体刻蚀装置，包括：刻蚀腔、感应线圈、抽气装置、静电吸盘，上电极板和下电极板，所述感应线圈和上电极板位于所述刻蚀腔上部，所述电极板位于所述刻蚀腔下部，下电极板位于静电吸盘内部，其特征在于所述感应线圈为矩形。
2.如权利要求1所述的刻蚀装置，其特征在于，所述感应线圈包括第一组感应线圈和第二组感应线圈，所述第一组感应线圈和所述第二组感应线圈中的交流电流互为反相。
3.如权利要求2所述的刻蚀装置，其特征在于，所述第一组感应线圈和所述第二组感应线圈在垂直方向上的高度分别调节。
4.如权利要求3所述的刻蚀装置，其特征在于，所述第一组感应线圈和所述第二组感应线圈在垂直方向上的高度分别进行调节的范围为-5cm至+5cm。
5.如权利要求1所述的刻蚀装置，所述感应线圈的长宽比为2∶1。
6.如权利要求2所述的刻蚀装置，其特征在于，所述第一组感应线圈和所述第二组感应线圈上分别加载一个到三个频率不同的交流电。
7.如权利要求6所述的刻蚀装置，其特征在于，所述第一组感应线圈和所述第二组感应线圈上加载的交流电频率范围为2MHz-160MHz。
8.如权利要求1至7中任意一项所述的刻蚀装置，其特征在于，所述下电极板的数量为两个，分别位于两个静电吸盘内部，所述抽气装置位于两个静电吸盘的中间。
9.如权利要求8所述的刻蚀装置，其特征在于，所述上电极板和所述两个下极板的电位分别进行调整和控制。
10.如权利要求9所述的刻蚀装置，其特征在于，在所述上电极板和所述两个下极板加载附加直流电以增加等离子体的能量密度。
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