[发明专利]紫杉烷类化合物及其制备方法有效

专利信息
申请号: 201110434548.3 申请日: 2011-12-22
公开(公告)号: CN103172654A 公开(公告)日: 2013-06-26
发明(设计)人: 胡雪峰;袁哲东;杨玉雷 申请(专利权)人: 上海医药工业研究院;江苏正大天晴药业股份有限公司
主分类号: C07F7/18 分类号: C07F7/18;C07D305/14;C07D413/12
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 200040*** 国省代码: 上海;31
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摘要:
搜索关键词: 紫杉 化合物 及其 制备 方法
【权利要求书】:

1.一种式V的化合物:

式V,

其中,R1选自硅烷基,优选三甲基硅烷基、三乙基硅烷基、三异丙基硅烷基、叔丁基二甲基硅烷基、叔丁基二苯基硅烷基,更优选三乙基硅烷基。

2.一种式V的化合物的制备方法,包括如下步骤:

(1)10-DAB为原料与硅烷化试剂反应,制备式III化合物,

(2)式III化合物与甲基化试剂反应,制备式IV化合物,

(3)式IV化合物与式II化合物进行缩合反应,制备得到式V化合物,

其中,R1选自硅烷基,优选三甲基硅烷基、三乙基硅烷基、三异丙基硅烷基、叔丁基二甲基硅烷基、叔丁基二苯基硅烷基,更优选三乙基硅烷基。

3.根据权利要求2所述的制备方法,其中步骤(1)中使用的硅烷化试剂是三乙基氯硅烷,使用的溶剂是吡啶,反应温度是0℃。

4.根据权利要求2所述的制备方法,其中步骤(1)中使用的硅烷化试剂是三乙基氯硅烷,使用的溶剂是DMF,碱是咪唑,反应温度是0℃。

5.根据权利要求2所述的制备方法,其中步骤(2)中使用的甲基化试剂是碘甲烷,使用的溶剂是四氢呋喃,碱性物质是LiHMDS,反应温度是0℃。

6.根据权利要求2所述的制备方法,其中步骤(3)中使用的缩合剂是DCC和DMAP,使用的溶剂是甲苯,反应温度是25℃。

7.一种由式V化合物制备卡巴他赛的方法,包括如下步骤:

(a)式V化合物脱掉硅烷基保护基制备得到化合物6,

(b)化合物6与甲基化试剂反应制备得到化合物7,

(c)由化合物7制备得到卡巴他赛,

其中,R1选自硅烷基,优选三甲基硅烷基、三乙基硅烷基、三异丙基硅烷基、叔丁基二甲基硅烷基、叔丁基二苯基硅烷基,更优选三乙基硅烷基。

8.根据权利要求7的方法,其中步骤(a)中使用的溶剂为DCM;反应温度为0-20℃;反应在氟化氢-三乙胺存在下进行。

9.根据权利要求7的方法,其中步骤(b)中使用的溶剂是DMSO;反应温度为0-20℃,优选0℃;使用的碱性物质为氢化钠。

10.根据权利要求7的方法,其中步骤(c)中使用的溶剂是HCl/乙醇;反应温度为-10-10℃,优选-2-5℃。

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