[发明专利]镀不妨碍视线图案的镜片制备方法

权利要求书

1.一种镀不妨碍视线图案的镜片制备方法，其特征在于步骤如下：

一)、基片清洁后，放置于高真空状态下的离子源真空机台内，在基片上先蒸镀一层高折射率的膜层后从真空机台取出；

二)、再将所需要的镂空图案镀膜板贴于基片的膜层，再次放置于真空机内，在镂空部位蒸镀另一低折射率膜层干涉形成不妨碍视线的图案，利用低折射的镀膜材料的厚度不同使基材成现不同的颜色，机台内的真空状态恢复常压后取出形成图案的镜片；

其中高折射率膜层厚度控制在650-1200nm，低折射率膜层厚度控制在600-1100nm。

2.根据权利要求1所述的镀不妨碍视线图案的镜片制备方法，其特征在于：所述的离子源真空机台内充满氩离子，且其内真空度真空度抽至至少10^-3到10^-5Torr。

3.根据权利要求1所述的镀不妨碍视线图案的镜片制备方法，其特征在于：步骤一)中，高折射率膜层是通过电阻加热或电子枪发射电子流的方式将一种高折射的镀膜材料蒸发后以分子的状态蒸着于镂空部分基片，形成高折射率膜层；低折射率膜层是通过电阻加热或电子枪发射电子流的方式将一种低折射的镀膜材料蒸发后以分子的状态蒸着于镂空图案处的混合膜层，形成低折射率膜层，低折射率膜层厚度的不同而呈现的颜色有金色、兰色、红色、银色、黄色、粉红颜色。

4.根据权利要求1或3所述的镀不妨碍视线图案的镜片制备方法，其特征在于：所述高折射的镀膜材料为二氧化钛TiO₂、二氧化锆ZrO₂、三氧化二钽Ta₂O₃、五氧化三钛Ti₃O₅任意一种，低折射的镀膜材料为二氧化硅SiO₂，高折射率材料TiO₂、ZrO₂、Ta₂O₃、Ti₃O₅其中任何一种形成贴于基片的膜层，SiO₂蒸镀于上述膜层的镂空部位干涉形成不妨碍视线的图案。

5.根据权利要求1或3所述的镀不妨碍视线图案的镜片制备方法，其特征在于：所述高折射的镀膜材料为二氧化钛TiO₂、二氧化锆ZrO₂、三氧化二钽Ta₂O₃、五氧化三钛Ti₃O₅任意一种，低折射的镀膜材料为二氧化硅SiO，高折射率材料TiO₂、ZrO₂、Ta₂O₃、Ti₃O₅其中任何一种形成贴于基片的膜层，SiO蒸镀于上述膜层的镂空部位干涉形成不妨碍视线的图案。

6.根据权利要求1所述的镀不妨碍视线图案的镜片制备方法，其特征在于：所述的基片为压克力AC基片、聚碳酸酯Polycarbonate基片、尼龙Nylon基片、CR-39基片、玻璃基片中的任意一种。