[发明专利]一种万能式断路器有效
申请号: | 201110429474.4 | 申请日: | 2011-12-20 |
公开(公告)号: | CN103177908A | 公开(公告)日: | 2013-06-26 |
发明(设计)人: | 南寅;张炎;刘磊 | 申请(专利权)人: | 首瑞(北京)投资管理集团有限公司 |
主分类号: | H01H71/08 | 分类号: | H01H71/08 |
代理公司: | 北京北新智诚知识产权代理有限公司 11100 | 代理人: | 张卫华 |
地址: | 102600 北京市*** | 国省代码: | 北京;11 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 万能 断路器 | ||
技术领域
本发明涉及一种万能式断路器,属于电气开关领域。
背景技术
断路器是低压配电系统中最重要的配电设备,随着电力工业的发展及市场的竞争,国内外纷纷推出新一代的断路器。导电系统是断路器中最重要的部分之一。在框架式断路器中导电系统分为本体导电系统和抽屉导电系统,其中本体导电系统是由动触头系统与静触头系统组成,不管是动触头系统还是静触头系统中都包含了一个与绝缘壳体固定的母排。目前这种母排在加工方式中主要由锻造成型和拉制成型。锻造成型的特点是可成型截面不一致且符合锻造工艺的母排。锻造后进行二次加工,二次加工量较大,加工成本高。拉制成型的特点是仅能成型截面一致且符合拉制工艺的母排。它可拉制批量型材,然后进行二次加工。其二次加工余量小,加工成本低。
图1为公知技术一,其动、静触头的母排基本成1形,均采用拉制型材后经二次加工所得。这种结构的优点在于动、静触头的母排均可直接作为抽屉桥型触头系统的插刀,相较另一种公知技术二减少了接触面的数量,在同等条件下,可有效降低断路器的内阻,提升其热稳定性;加工简单,用铜量少,结构简单,节约成本。其缺点为受制于1字形的母排,在同等体积情况下,为保证灭弧室具有足够的空间,导致进出线之间的间距较小,如图示中标注为L的尺寸,造成开关连接导电母排难度大,存在安全隐患。目前电气开关之公知技术二如图示2所示,其动、静触头母排形状均不规则,需采用锻造后二次加工成型。在本体导电系统与抽屉桥型触头之间加设一过渡母排,此过渡母排的一面与动静触头的一面通过螺钉压紧导电。很明显,此技术相较于公知技术一在每一极上多两块母排,多两个接触面。在同样的情况下,必定会增加内阻,若为了取得与公知技术一相当的内阻,必须通过增大接触面,这样就会增加铜材的用量,再加上锻造的二次加工成本高,因此此种技术所造开关总体成本较高。
发明内容
鉴于上述,本发明的目的是提供一种万能式断路器,它具有母排结构简单,加工方便,断路器接触电阻小,且进出线间距大的特点。
本发明是通过下述技术方案实现的:
一种万能式断路器,主要包括绝缘壳体,导电系统,灭弧系统,操作机构,控制部分;其中绝缘壳体主要由基座和底板组成。导电系统主要由动触头系统与静触头系统组成。动触头系统由操作机构带动与静触头系统分离和闭合,以实现断路器的分闸和合闸。静触头母排与过渡连接排为一体化,动触头母排与过渡连接排为一体化;一体化的静触头母排与过渡连接排的基本形状为L形或形,其一端与静触头的银合金触点相接触,另一端与导电母排固定连接或与抽架桥型触头活动连接;L形静触头母排与过渡连接排的两臂比例大于2/5且小于3。一体化的动触头母排与过渡连接排的形状为1形,其一端与动触头系统中的软导线连接,另一端与导电母排固定连接或与抽架桥型触头活动连接。断路器动、静触头过渡连接排的中心距大于120mm。
进一步地:
所述形静触头母排与过渡连接排的总厚度大于30mm。
更进一步地:
所述的一体化的动触头母排与过渡连接排的形状为Z形。
再进一步地:
所述动触头母排通过一个L形支架与绝缘壳体的基座连接。
本发明的有益效果是:
1.解决了母排加工成本高,用铜量多的问题,可有效降低成本,提高产品竞争力;
2.减少了接触面的数目,可有效降低接触电阻,进而降低整个断路器的内阻,增强断路器的热稳定性。
3.结构简单,安装方便;
4.进出线间距大,提高极间安全距离和开关的安全性能;
附图说明:
图1是公知技术一示意图;
图2是公知技术二示意图;
图3是本发明第一实施例结构简图之一;
图4是本发明第一实施例结构简图之二;
图5是本发明第二实施例结构简图之一;
图6是本发明第二实施例结构简图之二;
图7是本发明第三实施例结构图;
图8是L形静触头示意图;
图9是Z形静触头示意图。
图中:1.绝缘本体、2.断路器抽屉部分、11.基座、12.底板、13.动触头系统、131.软导线、14.静触头系统、141.银合金触点、15.静触头母排、16.动触头母排、17.灭弧系统、18.过渡母排、19.L形支架、21.桥型触头 31.导电母排。
具体实施方式:
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于首瑞(北京)投资管理集团有限公司,未经首瑞(北京)投资管理集团有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201110429474.4/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:邻菲啰啉三唑类稀土配合物及其制备方法
- 下一篇:一种投影机测试平台