[发明专利]一种纳米压印光刻胶表面改性剂有效

专利信息
申请号: 201110428667.8 申请日: 2011-12-20
公开(公告)号: CN102604454A 公开(公告)日: 2012-07-25
发明(设计)人: 张剑平;赵彬;王金合;任鑫;施利毅 申请(专利权)人: 上海大学
主分类号: C09D4/02 分类号: C09D4/02;G03F7/11
代理公司: 上海上大专利事务所(普通合伙) 31205 代理人: 顾勇华
地址: 200444*** 国省代码: 上海;31
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摘要:
搜索关键词: 一种 纳米 压印 光刻 表面 改性
【权利要求书】:

1. 一种纳米压印光刻胶表面改性剂,其特征在于具有以下的组成成分及重量百分比:

有机小分子溶剂           65%-85%  

全氟紫外固化树脂         10%-30%  

表面活性剂               0.5%-5% 

光引发剂                 0.1-0.5% 

稳定剂                   0.1-0.5%

所述的有机小分子溶剂,为乳酸乙酯、丁酮、环己酮、二丙酮醇、乙二醇甲醚、乙二醇乙醚、乙二醇单丁醚中的任一种或几种的组合;

所述的全氟紫外固化树脂碳原子数目为大于10而小于25的全氟丙烯酸酯、全氟环氧树脂、全氟乙烯基醚中的一种;

所述的表面活性剂为脂肪醇聚氧乙烯醚、聚氧乙烯烷基胺、多醇表面活性剂中的任一种或几种的组合;

所述的光引发剂,为2,2-二乙氧苯乙酮、1-羟基环己基苯乙酮、对异丙基苯基-2-羟基二甲基丙酮-1、二苯甲酮、2-氯化硫杂蒽酮、4-苯基二苯甲酮、2,4二甲基硫杂蒽酮、9,10-菲醌、双甲基氨-对氧氮环丁酮中的任一种或几种的组合;

    所述的稳定剂,为二苯甲酮类、苯并三唑类、水杨酸芳香酯类、苯甲酸酯类稳定剂的任一种或几种的组合。

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