[发明专利]一种纳米压印光刻胶表面改性剂有效
| 申请号: | 201110428667.8 | 申请日: | 2011-12-20 |
| 公开(公告)号: | CN102604454A | 公开(公告)日: | 2012-07-25 |
| 发明(设计)人: | 张剑平;赵彬;王金合;任鑫;施利毅 | 申请(专利权)人: | 上海大学 |
| 主分类号: | C09D4/02 | 分类号: | C09D4/02;G03F7/11 |
| 代理公司: | 上海上大专利事务所(普通合伙) 31205 | 代理人: | 顾勇华 |
| 地址: | 200444*** | 国省代码: | 上海;31 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 一种 纳米 压印 光刻 表面 改性 | ||
1. 一种纳米压印光刻胶表面改性剂,其特征在于具有以下的组成成分及重量百分比:
有机小分子溶剂 65%-85%
全氟紫外固化树脂 10%-30%
表面活性剂 0.5%-5%
光引发剂 0.1-0.5%
稳定剂 0.1-0.5%
所述的有机小分子溶剂,为乳酸乙酯、丁酮、环己酮、二丙酮醇、乙二醇甲醚、乙二醇乙醚、乙二醇单丁醚中的任一种或几种的组合;
所述的全氟紫外固化树脂碳原子数目为大于10而小于25的全氟丙烯酸酯、全氟环氧树脂、全氟乙烯基醚中的一种;
所述的表面活性剂为脂肪醇聚氧乙烯醚、聚氧乙烯烷基胺、多醇表面活性剂中的任一种或几种的组合;
所述的光引发剂,为2,2-二乙氧苯乙酮、1-羟基环己基苯乙酮、对异丙基苯基-2-羟基二甲基丙酮-1、二苯甲酮、2-氯化硫杂蒽酮、4-苯基二苯甲酮、2,4二甲基硫杂蒽酮、9,10-菲醌、双甲基氨-对氧氮环丁酮中的任一种或几种的组合;
所述的稳定剂,为二苯甲酮类、苯并三唑类、水杨酸芳香酯类、苯甲酸酯类稳定剂的任一种或几种的组合。
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