[发明专利]一种LPCVD工艺腔中的气体吹扫系统及方法

权利要求书

1.一种LPCVD工艺腔中的气体吹扫系统，包括加热腔、冷却腔和多个用于沉积BZO玻璃的工艺腔，各个腔室之间螺纹连接，其特征在于还包括设置在工艺腔内，紧邻两工艺腔对接腔壁处的气体吹扫装置。

2.根据权利要求1所述的LPCVD工艺腔中的气体吹扫系统，其特征在于所述气体吹扫装置包括用于吹扫的分气装置本体、吹扫气体进气孔、分气装置中用于匀气的分气口和固定分气装置的螺丝；其中，进气孔位于工艺腔侧壁紧邻两工艺腔对接腔壁处，分气装置本体一端与进气孔连接，分气装置本体上壁通过螺丝与工艺腔腔盖固定，分气装置本体下方连接多个分气口。

3.根据权利要求2所述的LPCVD工艺腔中的气体吹扫系统，其特征在于所述分气口呈上粗下细状。

4.根据权利要求2所述的LPCVD工艺腔中的气体吹扫系统，其特征在于所述分气口密集分布，且紧贴两工艺腔间传输玻璃的缝隙。

5.根据权利要求1所述的LPCVD工艺腔中的气体吹扫系统，其特征在于所述吹扫系统还连接有控制气体进气和流量大小的装置。

6.根据权利要求5所述的LPCVD工艺腔中的气体吹扫系统，其特征在于所述吹扫系统还连接有气动阀和质量流量计。

7.一种LPCVD工艺腔中的气体吹扫方法，通入工艺气体的同时打开吹扫系统的进气装置，将吹扫气体通到工艺腔室侧壁的进气孔处，吹扫气体通过进气孔流入到气体分气装置本体，通过分气装置本体分流，从分气口流出，将吹扫气体从上往下均匀的吹扫到腔室之间的缝隙处。

8.根据权利要求7所述的LPCVD工艺腔中的气体吹扫方法，其特征在于所述吹扫系统的进气装置为气动阀。

9.根据权利要求8所述的LPCVD工艺腔中的气体吹扫方法，其特征在于所述吹扫系统还连接有控制流量大小的装置，优选质量流量计。

10.根据权利要求7所述的LPCVD工艺腔中的气体吹扫方法，其特征在于所述吹扫气体为惰性气体或氢气。