[发明专利]显示装置、显示装置的控制方法及电子设备

说明书

技术领域

本发明涉及显示装置、显示装置的控制方法以及电子设备。

背景技术

有一种在像素中具有存储数据的存储器的显示装置(例如，参见JP-A-2009-98234(专利文件1))。像素中具有存储器的显示装置可保存曾经在像素中写入的显示数据。从而，当像素阵列单元中的各个像素中数据部分地改写时，可减少要传输的数据量，因此，可实现显示装置的低功耗。

在包括像素中具有存储器的显示装置的现有技术系统中，显示数据以与诸如垂直同步信号的同步信号同步的方式规则地从驱动显示装置的驱动器IC改写。就是说，在现有技术系统中，显示数据以与垂直同步信号同步的方式改写。

发明内容

在上面的现有技术中，从外部输入的显示数据必须与垂直同步信号同步，因此，新显示的一个屏幕的显示数据必须预先在外部产生，并且产生的显示数据必须被传输。然而，例如，当需要频繁地改写部分显示屏时，以与垂直同步信号同步的方式传输一个屏幕的显示数据缺乏效率，因此需要以任意时序改写显示数据。

考虑到上述情况，所希望的是提供能够以任意时序执行像素数据改写处理而不使从外部输入的数据与垂直同步信号同步的显示装置、该显示装置的驱动方法和包括该显示装置的电子设备。

本发明的实施例提供一种显示装置，其包括：显示单元，其中设置包括存储器的像素；以及存储单元，保存数据，其中根据外部提供的指令，基于该存储单元保存的数据，关于属于该显示单元的部分区域的像素改写该存储器保存的内容。

在具有上述构造的显示装置中，根据外部提供的指令，关于属于显示单元的部分区域的像素改写存储器保存的内容，因此在从客户端提供写入请求时执行改写处理，而不与垂直同步信号同步的方式改写数据。

根据本发明的实施例，像素数据的改写处理可以任意时序执行而不使从外部输入的数据与垂直同步信号同步。

附图说明

图1是示出根据本发明实施例的显示装置的系统构造示例的框图；

图2是示出TFT电路单元的具体构造示例的框图；

图3是示出MIP的像素的电路构造示例的框图；

图4是说明MIP的像素运行的时序图；

图5是示出MIP的像素的具体电路构造示例的电路图；

图6是示出驱动器IC中的像素数据的部分改写处理的具体处理程序的流程图；

图7A至7C是关于区域分级法(area gradation method)中关于像素划分的示意图；

图8是示出三分像素结构中三个子像素电极和两对驱动电路之间对应关系的电路图；

图9A和9B是关于根据应用区域分级法的三分像素的示例1的像素结构的示意图，其中图9A是示出三个子像素电极的平面图，而图9B是沿着图9A的X-X′线的截面图；

图10A和10B是关于根据应用区域分级法的三分像素的示例2的像素结构的示意图，其中图10A是示出三个子像素电极的平面图，而图10B是沿着图10A的Y-Y′线的截面图；

图11是关于为像素电极选择性供电的开关器件的示意图；

图12是示出根据该实施例的像素阵列基板的具体结构示例的相应部分的截面图；

图13A和13B示出在具有包括存储器的像素结构的TFT基板上形成平坦化膜并且在其上依次形成像素电极时获得的基板表面粗糙度，其中图13A示出平坦化膜具有两层结构的情况，而图13B作为比较图示出平坦化膜具有单层结构的情况；

图14是示出根据该实施例的像素阵列基板结构的制造方法工艺流程的流程图；

图15A和15B是关于像素电路在形成第一层平坦化膜的状态下的示意图，其中图15A是示意性地示出平面图案的平面图案图，而图15B示出沿着图15A的A-A′线的截面结构图；

图16A和16B是关于像素电路在形成像素电极后的示意图，其中图16A是示意性地示出平面图案的平面图案图，而图16B示出沿着图16A的B-B′线的截面结构图；

图17A至17C是关于第二层平坦化膜的熔化流速的示意图；

图18A和18B是关于第二层平坦化膜的材料是具有低熔化流速材料的情况的示意图；

图19A和19B是关于第二层平坦化膜的材料为具有高熔化流速材料的情况的示意图；

图20A和20B是示出应用本发明的数字相机外观的透视图，其中图20A是从前面看的透视图，而图20B是从后面看的透视图；

图21是示出应用本发明的摄像机外观的透视图；以及