[发明专利]垂直式热处理炉结构

权利要求书

1.一种垂直式热处理炉结构，包括：

一外炉体，具有一外壁及一内壁所形成的第一容置空间，并具有一第一侧边及相对该第一侧边的一第二侧边，且于该第一侧边形成该第一容置空间的开口，而该第二侧边为一个封闭面；

一个内炉体，是间隔地固设于该外炉体的第一容置空间中，该内炉体有一外侧壁及一内侧壁所形成的第二容置空间，并具有一第三侧边及相对该第三侧边的一第四侧边，部分该第三侧边由一个下封闭面与该第一侧边连接，使得第三侧边形成一个第二容置空间的开口，而该第四侧边为一个封闭面，其中，该内炉体的外侧壁与该外炉体的内壁间形成一个气体流动空间，且于该内炉体的内侧壁中形成一个反应空间；

一闸门，具有外表面及内表面，通过该内表面与该第三侧边的该第二容置空间的开口接触后，使得该气体流动空间与该反应空间各自形成独立的空间。

2.依据权利要求1所述的垂直式热处理炉结构，其中该外炉体的材质由下列组成中选出：钢或不锈钢。

3.依据权利要求1所述的垂直式热处理炉结构，其中该内炉体的材质为由下列组成中选出：石英或二氧化硅。

4.依据权利要求1所述的垂直式热处理炉结构，其中该气体流动空间中配置有至少一第一传感器，且每一该第一传感器与该控制机构连接。

5.依据权利要求1所述的垂直式热处理炉结构，其中该反应空间中配置有至少一第二传感器，且每一该第二传感器与该控制机构连接。

6.依据权利要求4或5所述的垂直式热处理炉结构，其中该第一传感器及该第二传感器为压力计。

7.依据权利要求4或5所述的垂直式热处理炉结构，其中该第一传感器及该第二传感器为密度计。

8.依据权利要求1所述的垂直式热处理炉结构，其进一步包括一加热机构，固设于该内炉体外侧壁上，且与该内炉体外侧壁相接触。

9.依据权利要求1所述的垂直式热处理炉结构，其中该加热机构由下列组合中选出：石墨加热器或卤素灯。

10.依据权利要求1所述的垂直式热处理炉结构，其进一步包括一供气机构，由多个气体管路所组成，该多个气体管路通过该闸门的外表面及内表面后，由该下封闭面及该第二容置空间的开口通入气体至该气体流动空间与该反应空间。

11.依据权利要求1所述的垂直式热处理炉结构，其进一步包括一控制机构，配置于该外炉体的外部，用以控制该供气机构提供一第一气体及一第二气体至该气体流动空间与该反应空间中的量，使得该气体于流动空间形成一第一压力，而反应空间形成一第二压力。

12.依据权利要求11所述的垂直式热处理炉结构，其中该第一压力大于一大气压力。

13.一种垂直式热处理炉结构，包括：

一外炉体，具有一外壁及一内壁所形成的第一容置空间，并具有一第一侧边及相对该第一侧边的一第二侧边，且于该第一侧边形成该第一容置空间的开口，而该第二侧边为一个封闭面；

一个内炉体，间隔地固设于该外炉体的第一容置空间中，该内炉体具有一外侧壁及一内侧壁所形成的第二容置空间，并具有一第三侧边及相对该第三侧边的一第四侧边，部分该第三侧边由一个下封闭面与该第一侧边连接，使得第三侧边形成一个第二容置空间的开口，而该第四侧边为一个封闭面，其中，该内炉体的外侧壁与该外炉体的内壁间形成一个气体流动空间，且于该内炉体的内侧壁中形成一个反应空间；

一加热机构，固设于该内炉体外侧壁上，且与该内炉体外侧壁相接触；

一闸门，具有外表面及内表面，通过该内表面与该第三侧边的该第二容置空间的开口接触后，使得该气体流动空间与该反应空间各自形成独立的空间；

一供气机构，配置于该外炉体的外部，由多个气体管路所组成，该多个气体管路通过该闸门的外表面及内表面后，由该下封闭面及该第二容置空间的开口通入气体至该气体流动空间与该反应空间；

一控制机构，配置于该外炉体的外部，用以控制该供气机构提供一第一气体及一第二气体至该气体流动空间与该反应空间中的量，使得该气体于流动空间形成一第一压力，而反应空间形成一第二压力。

14.依据权利要求13所述的垂直式热处理炉结构，其中该气体流动空间中配置有至少一第一传感器，且每一该第一传感器与该控制机构连接。