[发明专利]一种改善相变材料抛光后表面质量的抛光液

权利要求书

1.一种用于相变存储器的化学机械抛光液，包括抛光颗粒、氧化剂、表面改善剂和水性介质；以所述抛光液总重量为基准计，所述抛光颗粒的含量为0.1-30wt％，所述氧化剂的含量为0.01-10wt％，所述表面改善剂的含量为0.0001-5wt％。

2.如权利要求1所述的化学机械抛光液，其特征在于，以所述抛光液总重量为基准计，所述抛光颗粒的含量为0.5-5wt％；所述氧化剂的含量为0.1-5wt％；所述表面改善剂的含量为0.001-2wt％。

3.如权利要求1所述的化学机械抛光液，其特征在于，所述抛光颗粒为胶体SiO₂或烧结SiO₂，其粒径范围为1-500nm。

4.如权利要求1所述的化学机械抛光液，其特征在于，所述氧化剂选自双氧水、过硫酸钾、过硫酸铵、高锰酸钾、碘酸、高氯酸钾、高碘酸、碘酸钾、高碘酸钾和铁氰化钾中的一种。

5.如权利要求1所述的化学机械抛光液，其特征在于，所述表面改善剂选自脂肪醇聚氧乙烯醚、尿素、聚丙烯酸、色氨酸、碘化铵、脂肪醇聚氧乙烯醚磷酸酯、丁二酸、苏氨酸、吐温-80、甘氨酸、十六烷基三甲基溴化铵、溴化铵、聚乙烯醇磷酸铵、柠檬酸、精氨酸、羟乙基纤维素、缬氨酸、氯化铵、聚乙烯吡咯烷酮、氟化铵、聚乙二醇、丙氨酸、丝氨酸、氨基乙酸、聚乙烯醇、组氨酸、酪氨酸、硫化铵、苯丙三唑、异亮氨酸、对苯二酸、蛋氨酸、谷氨酸、聚丙酰胺、草酸胺、胱氨酸、酒石酸、聚乙烯胺、柠檬酸胺、脯氨酸、天门冬氨酸、亮氨酸、乙二胺四乙酸、乙酸胺、皮考林酸、葡萄糖酸、聚氧乙烯月桂醚以及苯丙氨酸。

6.如权利要求1所述的化学机械抛光液，其特征在于，所述抛光液中还包括pH调节剂，用以调节抛光液的pH值。

7.如权利要求6所述的化学机械抛光液，其特征在于，所述pH调节剂选自硝酸、磷酸、硫酸、盐酸、氢氧化钾、甲胺、乙胺、羟乙基乙二氨、二甲胺、三乙胺、三丙胺、己胺、辛胺及环己胺中的一种或它们的任意组合；所述抛光液的pH值范围为1-13。

8.如权利要求1所述的化学机械抛光液，其特征在于，所述水性介质为去离子水。

9.如权利要求1-8中任一所述的化学机械抛光液的用途，其特征在于，所述抛光液应用于硫系化合物相变存储材料的化学机械抛光工艺。

10.如权利要求9所述的化学机械抛光液的用途，其特征在于，所述硫系化合物相变存储材料的化学通式选自Ge_xSb_yTe_(1-x-y)、Si_xSb_yTe_(1-x-y)、Al_xSb_yTe_(1-x-y)、Si_mSb_100-m或Ge_mSb_100-m；其中，0≤x≤0.5，0≤y≤0.5，且x、y不同时为0，0＜m＜100。