[发明专利]等离子体喷镀装置

权利要求书

1.一种等离子体喷镀装置，具备：阴极；在该阴极的外周形成第一气体通路以覆盖上述阴极的前端部的第一气体喷嘴；配置于该第一气体喷嘴的外侧形成第二气体通路的第二气体喷嘴；以及向该第二气体喷嘴的喷嘴口附近供给喷镀用的金属丝的金属丝通路，其中，利用在由上述金属丝通路供给的上述金属丝的前端与上述阴极之间生成的电弧，使得从上述第一气体喷嘴喷射的第一气体等离子体化，形成由上述第一气体喷嘴喷射的等离子体火焰，使上述金属丝的前端成为熔滴，利用从上述等离子体火焰和上述第二气体喷嘴喷射的第二气体将该熔滴喷射至被处理物上，其中，

上述金属丝通路具有在上述等离子体火焰的伸展方向上长的大致呈长方形的剖面形状，对上述金属丝施予不超出弹性极限的范围的弯曲。

2.如权利要求1所述的等离子体喷镀装置，其特征在于，

上述金属丝通路的大致呈长方形的剖面形状其短边方向的宽度以3％以上且不到10％的范围大于金属丝的直径。

3.如权利要求1或2所述的等离子体喷镀装置，

上述金属丝通路具有第一金属丝通路和第二金属丝通路，其中，上述第一金属丝通路具有在上述第二气体喷嘴的喷嘴口附近形成的金属丝出口，上述第二金属丝通路对该第一金属丝通路以规定的倾角供给上述金属丝。

4.如权利要求3所述的等离子体喷镀装置，

上述规定的倾角为1～5°。

5.如权利要求3或4所述的等离子体喷镀装置，

上述第一金属丝通路和上述第二金属丝通路隔开3～10mm的间隙而配置。