[发明专利]碳纳米管膜的制备方法

权利要求书

1.一种碳纳米管膜的制备方法，包括：

提供一碳纳米管阵列以及一旋转轴；

从所述碳纳米管阵列中拉取一碳纳米管初级膜，并将所述一碳纳米管初级膜固定于所述旋转轴，所述旋转轴具有一旋转轴心；

旋转所述旋转轴，所述碳纳米管初级膜连续地从所述碳纳米管阵列中拉出并缠绕于所述旋转轴形成一碳纳米管层；以及

将所述碳纳米管层沿平行于所述旋转轴轴向的方向断开，形成一碳纳米管膜。

2.如权利要求1所述的碳纳米管膜的制备方法，其特征在于，将所述一碳纳米管初级膜固定于所述旋转轴后，该碳纳米管初级膜与所述碳纳米管阵列中碳纳米管的延伸方向形成一交叉角，该夹角在60°～90°之间。

3.如权利要求2所述的碳纳米管膜的制备方法，其特征在于，该夹角在85°～90°之间。

4.如权利要求3所述的碳纳米管膜的制备方法，其特征在于，所述旋转轴的线速度为0.01m/s~150m/s之间。

5.如权利要求1所述的碳纳米管膜的制备方法，其特征在于，所述将一碳纳米管初级膜缠绕于所述旋转轴的过程中，该碳纳米管初级膜连续地从碳纳米管阵列中拉出并缠绕于所述旋转轴。

6.如权利要求1所述的碳纳米管膜的制备方法，其特征在于，在缠绕碳纳米管初级膜之前，在所述旋转轴的外表面预先形成一包覆层。

7.如权利要求6所述的碳纳米管膜的制备方法，其特征在于，所述包覆层具有多个均匀分布的微孔，该微孔的直径可以为10纳米～1毫米，相邻的微孔之间的间距为10纳米～0.1毫米，该微孔的深度为10纳米～1毫米。

8.如权利要求5所述的碳纳米管膜的制备方法，其特征在于，所述包覆层具有多个均匀分布的微孔，所述微孔的直径和间距的比值大于等于10：1，且所述微孔的间距小于等于100微米。

9.如权利要求1所述的碳纳米管膜的制备方法，其特征在于，所述将碳纳米管层沿平行于所述旋转轴轴向的方向断开的方法为机械切割法或激光烧蚀法。

10.如权利要求9所述的碳纳米管膜的制备方法，其特征在于，所述激光烧蚀法包括以下步骤：

提供一激光装置；

将所述激光装置沿所述碳纳米管层上的一切割线聚焦照射一预定时间，使该切割线上的碳纳米管因高温烧蚀而断开，其中，所述切割线平行于所述旋转轴的轴向。

11.如权利要求1所述的碳纳米管膜的制备方法，其特征在于，进一步包括在所述旋转轴的一侧平行设置一滚轴，该滚轴用于在将所述碳纳米管初级膜缠绕于所述旋转轴上形成碳纳米管层的过程中，挤压并压实所述碳纳米管层。

12.如权利要求1所述的碳纳米管膜的制备方法，其特征在于，在形成所述碳纳米管层或碳纳米管膜之后，进一步使用一易挥发的有机溶剂处理所述碳纳米管层或碳纳米管膜。