[发明专利]电子层结构排版方法和装置无效

专利信息
申请号: 201110406414.0 申请日: 2011-12-06
公开(公告)号: CN103150295A 公开(公告)日: 2013-06-12
发明(设计)人: 谢国超;赵志刚 申请(专利权)人: 北大方正集团有限公司;北京北大方正电子有限公司
主分类号: G06F17/24 分类号: G06F17/24
代理公司: 北京英赛嘉华知识产权代理有限责任公司 11204 代理人: 王达佐
地址: 100871 北京市*** 国省代码: 北京;11
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摘要:
搜索关键词: 电子层 结构 排版 方法 装置
【权利要求书】:

1.一种电子层结构排版方法,其特征在于,包括:

提供界面以接受用户输入元素名称;

在预先创建的基本库中查找具有所述元素名称的元素记录;

在编辑版面中,以所述元素记录的各个属性绘制所述元素的电子层结构。

2.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,所述各个属性包括以下至少一项:

风格,用于指定电子层的形状,可选值包括扇形和圆形;

线宽,用于指定绘制的线宽;

间距,用于指定各个电子层之间的间距;

张角,用于指定当电子层的风格为扇形时,所述扇形的张角;

方向,用于指定当电子层的风格为扇形时,所述扇形的方向;

字体,用于指定电子层中文字的字体;

字号,用于指定电子层中文字的字号。

3.根据权利要求2所述的方法,其特征在于,所述风格的缺省值为扇形,所述线宽的缺省值为0.3pt,所述间距的缺省值为100%,所述张角的缺省值为60度,所述方向的缺省值为0度,所述字体的缺省值为Times New Roman,所述字号的缺省值为10.6pt。

4.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,所述各个属性包括:

数值,用于指定各个电子层的电子数量,可选值包括标准和自定义;

当所述数值为标准时,允许设置价态,价态缺省值为0;

当所述数值为自定义时,允许用户设置各电子层的电子数量。

5.根据权利要求4所述的方法,其特征在于,以所述元素记录的各个属性绘制所述元素的电子层结构包括:

当所述数值为标准时,根据化学规则绘制各个电子层的电子数量;

当所述数值为自定义时,根据用户设置的各电子层的电子数量绘制各个电子层的电子数量。

6.根据权利要求2-5任一项所述的方法,其特征在于,在所述界面中呈现各个所述属性的缺省值。

7.根据权利要求6所述的方法,其特征在于,还包括:

在所述界面中接受用户对所述属性进行赋值。

8.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,还包括:

在所述界面中提供预览窗口,在所述预览窗口中,以所述元素记录的各个属性绘制所述元素的电子层结构。

9.一种电子层结构排版装置,其特征在于,包括:

界面模块,用于提供界面以接受用户输入元素名称;

查找模块,用于在预先创建的基本库中查找具有所述元素名称的元素记录;

绘制模块,用于在编辑版面中,以所述元素记录的各个属性绘制所述元素的电子层结构。

10.根据权利要求9所述的装置,其特征在于,所述各个属性包括以下至少一项:

风格,用于指定电子层的形状,可选值包括扇形和圆形;

线宽,用于指定绘制的线宽;

间距,用于指定各个电子层之间的间距;

张角,用于指定当电子层的风格为扇形时,所述扇形的张角;

方向,用于指定当电子层的风格为扇形时,所述扇形的方向;

字体,用于指定电子层中文字的字体;

字号,用于指定电子层中文字的字号。

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