[发明专利]一种仪表表面反光分析方法

权利要求书

1.一种仪表表面反光分析方法，其特征在于，所述方法包括：

确定用户观察所述仪表表面时的眼睛所处区域；

在所述眼睛所处区域内取样至少一个第一类型取样点；

在所述仪表表面取样若干个第二类型取样点；

根据所述第一类型取样点和所述第二类型取样点之间的连线确定反射光的光线路径；

根据所述反射光的光线路径和所述仪表表面确定入射光的光线路径。

2.根据权利要求1所述的仪表表面反光分析方法，其特征在于，所述方法还包括：

判断是否存在第一外部入射光，所述第一外部入射光的光线路径符合所述入射光的光线路径；

如果存在，则判断所述仪表表面不符合第一设计要求；

如果不存在，则判断所述仪表表面符合第一设计要求。

3.根据权利要求2所述的仪表表面反光分析方法，其特征在于，所述判断所述仪表表面不符合第一设计要求之后，还包括；

改变所述仪表表面的角度或者曲率，使得所述入射光的光线路径改变，从而不存在所述第一外部入射光。

4.根据权利要求2所述的仪表表面反光分析方法，其特征在于，所述判断所述仪表表面不符合第一设计要求之后，还包括；

在所述第一外部入射光的光线路径上设置遮挡物。

5.根据权利要求1所述的仪表表面反光分析方法，其特征在于，所述方法还包括：

判断是否存在第二外部入射光，所述第二外部入射光在预定反射面上形成的反射光线的光线路径符合所述入射光的光线路径；

如果存在，则判断所述仪表表面不符合第二设计要求；

如果不存在，则判断所述仪表表面符合第二设计要求。

6.根据权利要求5所述的仪表表面反光分析方法，其特征在于，所述判断所述仪表表面不符合第二设计要求之后，还包括：

调整所述预定反射面的角度、曲率或者表面材质，使得所述第二外部入射光在调整后的反射面上形成的反射光线的光线路径不符合所述入射光的光线路径。

7.根据权利要求5所述的仪表表面反光分析方法，其特征在于，所述判断所述仪表表面不符合第二设计要求之后，还包括：

在所述第二外部入射光及其反射光线的光线路径上设置遮挡物。

8.根据权利要求5所述的仪表表面反光分析方法，其特征在于，所述判断所述仪表表面不符合第二设计要求之后，还包括：

改变所述仪表表面的角度或者曲率，使得所述入射光的光线路径改变，从而不存在所述第二外部入射光。

9.根据权利要求1至8任一所述的仪表表面反光分析方法，其特征在于，所述在所述眼睛所处区域内取样至少一个第一类型取样点，具体包括：

在所述眼睛所处区域内均匀取样若干个第一类型取样点。

10.根据权利要求1至8任一所述的仪表表面反光分析方法，其特征在于，所述在所述仪表表面取样若干个第二类型取样点，具体包括：

在所述仪表表面均匀取样若干个第二类型取样点。