[发明专利]氧化硅玻璃坩埚的制造方法有效
| 申请号: | 201110396967.2 | 申请日: | 2011-12-02 |
| 公开(公告)号: | CN102531343A | 公开(公告)日: | 2012-07-04 |
| 发明(设计)人: | 须藤俊明;吉冈拓麿 | 申请(专利权)人: | 日本超精石英株式会社 |
| 主分类号: | C03B19/09 | 分类号: | C03B19/09 |
| 代理公司: | 上海波拓知识产权代理有限公司 31264 | 代理人: | 杨波 |
| 地址: | 日本秋田县秋*** | 国省代码: | 日本;JP |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 氧化 玻璃 坩埚 制造 方法 | ||
1.一种氧化硅玻璃坩埚的制造方法,其特征在于:所述方法包括:
(1)在旋转的模具内供应氧化硅原料粉,形成坩埚形成形体的工序;
(2)一边旋转上述坩埚形成形体,一边以由内面至外面的方向进行减压并进行电弧加热,而形成具有内面侧的透明层及外面侧的含气泡层的、具有由底部及与该底部相连的壁部组成的有底圆筒形状的氧化硅玻璃坩埚的工序;
(3)在通过电弧加热熔化上述氧化硅玻璃坩埚的内面侧的状态下,通过控制赋予该氧化硅玻璃坩埚的转速,使该氧化硅玻璃坩埚的上述透明层的表面附近的残留有气泡的氧化硅玻璃层集中到底部的径向外侧的透明层中的工序;
(4)在通过电弧加热熔化上述氧化硅玻璃坩埚的内面侧的状态下,通过控制赋予该氧化硅玻璃坩埚的转速,将移动上述残留有气泡的氧化硅玻璃层而暴露的上述透明层表面的无气泡层的一部分移动至底部的径向外侧,利用该无气泡层覆盖气泡集中区域的工序。
2.如权利要求1所述的氧化硅玻璃坩埚的制造方法,其特征在于:
上述工序(3)包括:
(A)在通过电弧加热熔化上述氧化硅玻璃坩埚的壁部的内面侧的状态下,控制该氧化硅玻璃坩埚的转速,使存在于该壁部的透明层表面的残留有气泡的氧化硅玻璃层向底部移动的工序;
(B)在通过电弧加热熔化上述氧化硅玻璃坩埚的壁部的内面侧的状态下,控制该氧化硅玻璃坩埚的转速,使存在于该底部的透明层表面的残留有气泡的氧化硅玻璃层向底部的径向外侧移动的工序。
3.如权利要求2所述的氧化硅玻璃坩埚的制造方法,其特征在于包括:
上述工序(A)包含将上述氧化硅玻璃坩埚的转速控制在使该氧化硅玻璃坩埚的壁部位置上的加速度达到13m/s2以下的范围的工序;
上述工序(B)包含将上述氧化硅玻璃坩埚的转速控制在使该氧化硅玻璃坩埚的壁部位置上的加速度达到17m/s2以下的范围的工序;
上述工序(3)包含将上述氧化硅玻璃坩埚的转速控制在使该氧化硅玻璃坩埚的壁部位置上的加速度达到12m/s2以上且20m/s2以下的范围的工序。
4.如权利要求1至3中任意一项所述的氧化硅玻璃坩埚的制造方法,其特征在于:
在上述工序(2)~工序(4)中,上述电弧加热是在1800℃以上且2600℃以下的温度下进行的。
5.如权利要求1至3中任意一项所述的氧化硅玻璃坩埚的制造方法,其特征在于:
上述工序(1)包括:
在上述旋转模具内供应天然氧化硅粉而形成外层的工序,以及
在上述外层上供应合成氧化硅粉并而形成内层的工序。
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