[发明专利]电阻测试结构及方法无效
申请号: | 201110395429.1 | 申请日: | 2011-12-03 |
公开(公告)号: | CN103134986A | 公开(公告)日: | 2013-06-05 |
发明(设计)人: | 魏泰;秦晓静;程玉华 | 申请(专利权)人: | 上海北京大学微电子研究院 |
主分类号: | G01R27/02 | 分类号: | G01R27/02 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 201203 *** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 电阻 测试 结构 方法 | ||
1. 一种通孔电阻测试结构,其特征在于,包括:
多个子测试结构,所述子测试结构包括同一层的多个通孔和连接这些通孔的互连线,所述多个通孔和互连线构成一条通孔链结构;其中,
各子测试结构中,所有通孔尺寸完全一样;
各子测试结构中,互连线由上下两层互连线组成;
各子测试结构中,互连线由多个连接通孔的短线组成;
各子测试结构中,上下互连线在通孔位置有重叠区域。
2.如权利要求1所述的通孔电阻测试结构,其特征在于,各子测试结构之间,通孔数量不相同。
3.如权利要求1所述的通孔电阻测试结构,其特征在于,各子测试结构之间,对应的互连线宽度相等。
4.如权利要求1所述的通孔电阻测试结构,其特征在于,各子测试结构之间,对应的互连线厚度相等。
5.如权利要求1所述的通孔电阻测试结构,其特征在于,各子测试结构之间,各子测试结构的总长度相等。
6.如权利要求1所述的通孔电阻测试结构,其特征在于,各子测试结构之间,各子测试结构的上层或下层互连线的总长度(不包含上下层互连线重叠部分)相等。
7.如权利要求1所述的通孔电阻测试结构,其特征在于,各子测试结构之间,上下两层互连短线在通孔处重叠区域的面积足够容纳一个通孔。
8.一种采用权利要求1中所述的测试结构来测量互连线通孔电阻的方法,其特征在于,包括:
制作包含各子测试结构的测试芯片;
分别测试各子测试结构中通孔链的电阻;
分析各子测试结构的通孔链电阻值与相应子测试结构通孔个数、互连线电阻的对应关系;
根据所述对应关系,在直角坐标系中描点,画线;
根据所得直线,拟合直线的斜率为单个通孔电阻值。
9.如权利要求9所述的方法,其特征在于,所述对应关系为:
其中,代表所述第i个子测试结构的通孔链电阻测试值;代表所述各子测试结构中互连线部分的电阻值;代表各子测试结构的通孔链中的通孔数。
10.如权利要求9所述的方法,其特征在于,所述在坐标中描点画线包括:
以所述各子测试结构中通孔链的测试电阻为纵坐标;
以所述各子测试结构的通孔链中的通孔数为横坐标;
将所得数据用所述方法描点;
将所得点连接为一条直线。
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