[发明专利]射线敏感性树脂组合物、显示元件用固化膜、显示元件用固化膜的形成方法以及显示元件

权利要求书

1.一种射线敏感性树脂组合物，其含有：

[A]含有0.1摩尔％～35摩尔％(a1)下述式(1)所表示的结构单元的共聚物、

[B]具有乙烯性不饱和键的聚合性化合物，和

[C]射线敏感性聚合引发剂，

式(1)中，R¹为氢原子或甲基，X为上述式(2)或式(3)所表示的基团，Y为氧原子或硫原子，n为1～12的整数；

式(2)中，R²和R³各自独立地为氢原子、碳原子数为1～12的直链状或支链状的烷基或碳原子数为6～20的芳基，其中，上述芳基所具有的氢原子的部分或全部可以被碳原子数为1～12的直链状或支链状的烷基取代；

式(3)中，R⁴为氢原子、碳原子数为1～12的直链状或支链状的烷基或碳原子数为6～20的芳基，其中，上述芳基所具有的氢原子的部分或全部可以被碳原子数为1～12的直链状或支链状的烷基取代，m为0至3的整数，当R⁴为多个时，多个R⁴可以相同，也可以不同。

2.如权利要求1所述的射线敏感性树脂组合物，其中[A]共聚物是进一步含有(a2)具有羧基的结构单元和(a3)具有环氧基的结构单元的共聚物。

3.如权利要求1所述的射线敏感性树脂组合物，其中[A]共聚物中(a1)结构单元、(a2)结构单元和(a3)结构单元的含有比例分别为15摩尔％～33摩尔％。

4.如权利要求1、权利要求2或权利要求3所述的射线敏感性树脂组合物，其用于形成作为层间绝缘膜、保护膜或隔片的显示元件用固化膜。

5.一种显示元件用固化膜的形成方法，具有：

(1)在基板上形成如权利要求4所述的射线敏感性树脂组合物的涂膜的工序、

(2)对上述涂膜的至少一部分照射射线的工序、

(3)将上述照射了射线的涂膜显影的工序，以及

(4)对上述显影的涂膜进行焙烧的工序。

6.如权利要求5所述的显示元件用固化膜的形成方法，其中上述工序(4)的焙烧温度为200℃以下。

7.由权利要求4所述的射线敏感性树脂组合物所形成的作为层间绝缘膜、保护膜或隔片的显示元件用固化膜。

8.具备如权利要求7所述的显示元件用固化膜的显示元件。