[发明专利]一种基于超快激光掺杂的中间带材料的制备方法

权利要求书

1.一种基于超快激光掺杂的中间带材料的制备方法，其特征在于，该方法包括：

在硅衬底表层蒸镀钛薄膜；以及

采用超快激光辐照蒸镀有钛薄膜的硅材料表层。

2.根据权利要求1所述的基于超快激光掺杂的中间带材料的制备方法，其特征在于，所述在硅衬底表层蒸镀钛薄膜是采用电阻热蒸发或电子束热蒸发实现的。

3.根据权利要求1所述的基于超快激光掺杂的中间带材料的制备方法，其特征在于，所述钛薄膜的厚度介于几个纳米到几十个纳米之间。

4.根据权利要求1所述的基于超快激光掺杂的中间带材料的制备方法，其特征在于，所述采用超快激光辐照蒸镀有钛薄膜的硅材料表层的步骤中，超快激光的脉冲宽度、波长及能量是根据钛材料和硅衬底材料对不同波长的超快激光的吸收系数、晶格重组恢复速度及材料凝固速度所计算得到的。

5.根据权利要求4所述的基于超快激光掺杂的中间带材料的制备方法，其特征在于，所述超快激光为脉冲宽度为10ns的纳秒激光、脉冲宽度为20ns的皮秒激光或脉冲宽度为30ns的飞秒激光。

6.根据权利要求5所述的基于超快激光掺杂的中间带材料的制备方法，其特征在于，所述纳秒激光的波长为266nm，能量为0.6J/cm²；皮秒激光的波长为532nm，能量为0.8J/cm²；飞秒激光的波长为1064nm，能量为1.4J/cm²。