[发明专利]一种在硅片表面制备银纳米晶体的方法

权利要求书

1.一种在硅片表面制备银纳米晶体的方法，其特征在于，包括以下步骤：

（1）在硅片表面制备含有醛基的物质的种子层；

（2）利用硅片表面的种子层进行银镜反应；

（3）将银镜反应后的硅片冲洗之后自然晾干，得到银纳米晶体。

2.根据权利要求1所述的一种在硅片表面制备银纳米晶体的方法，其特征在于，所述步骤（1）的具体方法包括：

（1a）先对硅片表面进行清洗，再进行干燥；

（1b）将干燥后的硅片置于培养皿中，利用葡萄糖乙醇溶液制作种子层。

3.根据权利要求2所述的一种在硅片表面制备银纳米晶体的方法，其特征在于，所述步骤a中对硅片表面进行清洗的具体方法为：

先用有洗涤剂的无尘布搓洗硅片表面，然后将硅片放入氢氟酸溶液中浸泡，再用洗涤剂进行超声震荡清洗，然后用去离子水进行超声震荡清洗，然后用丙酮进行超声震荡清洗，最后用乙醇进行超声震荡清洗。

4.根据权利要求3所述的一种在硅片表面制备银纳米晶体的方法，其特征在于，所述步骤a中将硅片放入氢氟酸溶液中浸泡具体是指将硅片放入浓度为4%的氢氟酸溶液中浸泡5min。

5.根据权利要求4所述的一种在硅片表面制备银纳米晶体的方法，其特征在于，所述步骤a中先用洗涤剂进行超声震荡清洗、然后用去离子水进行超声震荡清洗、然后用丙酮进行超声震荡清洗、最后用乙醇进行超声震荡清洗的时间分别为15分钟。

6.根据权利要求5所述的一种在硅片表面制备银纳米晶体的方法，其特征在于，所述步骤a中干燥的设备为电热恒温鼓风干燥箱。

7.根据权利要求6所述的一种在硅片表面制备银纳米晶体的方法，其特征在于，所述步骤b中利用葡萄糖乙醇溶液制作种子层的方法为以下两种之一：

第一种：将葡萄糖乙醇溶液滴在硅片表面，并使其完全浸润硅片表面，之后让其自然晾干，或者再重复一次上述过程；

第二种：将葡萄糖乙醇溶液滴在硅片表面，几秒钟之后用无水乙醇冲洗再用电吹风吹干，并重复上述过程至少一次。

8.根据权利要求1～7中任意一项所述的一种在硅片表面制备银纳米晶体的方法，其特征在于，所述步骤（2）中利用硅片表面的种子层进行银镜反应的具体方法如下：

（2a）配置银氨溶液； 

（2b）将制作好的含有种子层的硅片放入已配置好的银氨溶液中，并于0-50℃水浴加热5-90分钟。

9.根据权利要求8所述的一种在硅片表面制备银纳米晶体的方法，其特征在于，所述步骤（2a）的具体方法如下：

取质量分数为2%的硝酸银溶液于洁净的烧杯中，加入质量分数为2%的氢氧化钠溶液，然后逐滴加入体积分数为2%的氨水，直到沉淀消失、溶液澄清为止。

10.根据权利要求9所述的一种在硅片表面制备银纳米晶体的方法，其特征在于，所述步骤（3）对银镜反应后的硅片进行冲洗的洗涤液为去离子水。