[发明专利]一种离子注入机自动建立源高真空的方法

说明书

技术领域

本发明涉及一种半导体器件制造真空控制系统，尤其涉及离子注入机的一种自动建立源高真空的方法。

背景技术

离子注入机是一种必须在真空系统下才能正常运行的设备，真空系统是离子注入机整个大系统中的一个重要组成部分之一，它是离子注入机传片系统、引束系统和注入系统的前提和保障，而自动建立高真空系统是离子注入机自动化控制成熟的重要标志，是发展的必然，自动建立源高真空又是离子注入机自动建立高真空系统的一个重要组成部分，因此离子注入机必须拥有自己的一套完善的自动建立高真空系统的方法，才能满足社会不断发展的需求。

鉴于自动建立高真空系统的重要性，如何开发出一种离子注入机自动建立源高真空的方法是离子注入机自动化控制急需解决的问题。

发明内容

本发明是针对离子注入机现有技术中自动建立源高真空系统的不足，影响设备自动化控制，而开发出的一种离子注入机自动建立源高真空的方法。如图1示意图。

本发明通过以下技术方案实现：

1.一种离子注入机自动建立源高真空的方法，包括：检测源腔体是否高真空状态(1)、源高真空未建立(2)、检测通信和水电气是否正常(3)、关闭源氮气阀V50、源与束线的隔离阀V51、束线与靶室粗抽阀V53和源粗抽阀V46(4)、开启源干泵RP3(5)、源干泵RP3已启动完成，开启源粗抽阀V46(6)、源低规G15真空值低于1时开启源分子泵TP1(7)、源分子泵TP1加速完成(8)、源高规IG1除气(9)、除气完成并开启显示源的真空值(10)、源高真空建立成功(11)、状态错误(12)、提示错误进入手动模式(13)、源高真空建立失败(14)。

2.一种离子注入机自动建立源高真空的方法，制定了一个系统全面的流程，每个过程阶段都有相应的条件判断，把设备可能出现的状态，全部都考虑了进去，避免了因考虑不周全，存有漏洞，而造成对设备的损坏，根据设备当前不同的状态，进入不同的流程判断，满足相应条件后才能进入下一个阶段，能够安全快速地自动建立源高真空。

3.一种离子注入机自动建立源高真空的方法，如图1中所示：自动过程中如果出现状态错误(12)的问题，会提示错误进入手动模式(13)，自动建立源高真空终止，只有再次启动自动建立源高真空，才能进入自动流程模式，这样设计的目的：一是保护设备；二是这种情况大部分非软件问题，一般是硬件、结构等其他问题，让用户手动处理，可以节约时间，提高效率。

本发明具有如下显著优点：

1.考虑的比较全面，从辅助的水电气系统，到干泵、分子泵、阀门、低规和高规等都考虑进去，并完善了各个控制点。

2.各个控制点之间都互相联锁，大幅度降低了因硬件、结构等其他原因，因信号异常，对设备造成的损坏。

3.采用状态机的编程模式，通过完善的流程和系统控制方法，在保证设备安全的前提下，提高了程序的执行速度，节约了时间，提高了效率。

附图说明

图1为离子注入机自动建立源高真空的流程图。

具体实施方式

下面结合附图1对本发明作进一步的介绍，但不作为对本发明的限定。

如图1中所示，启动自动建立源高真空开始命令，首先程序会判断源的状态，检测源腔体是否高真空状态(1)，如果是高真空状态，那么说明源已经处于高真空状态了，即源高真空建立完成(11)，这样自动建立源高真空命令执行完成就结束了；如果是非高真空状态，说明源高真空未建立(2)，这时开始进入较复杂的流程之中。