[发明专利]一种遮光板的制作方法有效
申请号: | 201110386632.2 | 申请日: | 2011-11-29 |
公开(公告)号: | CN102520590A | 公开(公告)日: | 2012-06-27 |
发明(设计)人: | 施明宏;林明文;李蒙;林韦呈 | 申请(专利权)人: | 深圳市华星光电技术有限公司 |
主分类号: | G03F7/20 | 分类号: | G03F7/20;G03F7/00 |
代理公司: | 深圳市百瑞专利商标事务所(普通合伙) 44240 | 代理人: | 邢涛;田夏 |
地址: | 518000 广东*** | 国省代码: | 广东;44 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 遮光板 制作方法 | ||
技术领域
本发明涉及液晶显示领域,更具体的说,涉及一种遮光板的制作方法。
背景技术
目前在TFT-LCD业界中,液晶盒(CELL)制程段进行框胶固化时需使用紫外线遮光板(UV glass),利用紫外线遮光板(UV glass)上的遮光图案遮蔽显示区(AA)区配向膜(PI)及液晶区域,使其不受紫外光照射之影响,同时将框胶部位暴露于紫外光照射下以达到固化之目的。紫外线遮光板(UV glass)的制作方法通常有两种,一种是设计紫外线遮光图案(UV mask),利用光罩曝光形成具有特定位置遮光图案的紫外线遮光板(UV glass);另一种方法是利用阵列基板(Array)周边露光机曝掉框胶所在位置的金属膜层,从而在玻璃基板(glass)上形成遮光图案。但是这两种方法分别存在如下缺陷:采用光罩曝光的方式,由于光罩价格昂贵,特别是高世代产线的大光罩,不利于降低产品生产成本;采用周边露光机的方式由于精度不高,制作结果往往与实际要达到的标准存在较大差距。
发明内容
本发明所要解决的技术问题是提供一种低成本、高精度的遮光板的制作方法。
本发明的目的是通过以下技术方案来实现的:
一种遮光板的制作方法,其步骤包括:
A:在曝光台上设置挡板,通过调整挡板的位置来控制玻璃基板上的露光区域的位置,从而将需透光区域的金属膜层移除,并在需要遮蔽的区域形成遮光图案。
优选的,所述挡板为曝光机台上自带的遮罩挡板。采用自带的遮罩挡板,无需额外增加投资,成本更低。
优选的,所述步骤A包括:
A1:在玻璃基板上形成不透光的金属膜层;
A2:在曝光台上设置挡板,在所述玻璃基板上形成保留区域图案,并通过曝光处理,移除玻璃基板的其他部分的金属膜层;保留区域的图案用于形成曝光机的对位标识,玻璃编号等图案。
A3:在玻璃基板形成金属膜层、涂光阻;采用挡板对需露光的胶框区域进行曝光处理,移除该区域的金属膜层。
优选的,所述步骤A2包括:
A2.1:先通过曝光机处理掉玻璃基板四周胶框对应区域的金属膜层;
A2.2:在所述玻璃基板上形成保留区域图案,并通过曝光处理,移除玻璃基板的其他部分的金属膜层。
优选的,所述步骤A3包括:
A3.1:在玻璃基板形成金属膜层、涂光阻;采用挡板遮蔽每个液晶盒对应区域,露出除液晶盒对应区域外的其它区域并进行曝光处理;
A3.2:依序进行显影、蚀刻、光阻剥离,保留遮光图案和紫外线光罩对准标记的金属膜层。
本发明采用了遮罩挡板,挡板可以独立运动,能单独进行精确控制,因此可以对曝光机的光线进行精确定位,制作出符合标准的的遮光板。而现有技术是在光罩上通过挡板围绕形成遮光区域,然后在光罩上方曝光形成遮光图案,本发明不使用光罩,直接利用挡板形成曝光区域,对遮光部分以外的区域进行直接曝光后移除金属膜层,从而节省了光罩的设计和制作成本;跟周边漏光机相比,曝光机的精度高、覆盖范围广,通过控制挡板,完全可以实现精确曝光,制作出高品质的遮光板。
附图说明
图1是本发明实施例步骤一示意图;
图2是本发明实施例步骤二示意图;
图3是本发明实施例步骤三示意图;
其中:100、遮光板;110、环路封条;120、保留区域图案;121、紫外线光罩对准标记;130、遮光图案。
具体实施方式
下面结合附图和较佳的实施例对本发明作进一步说明。
目前在TFT-LCD业界中,液晶盒(CELL)制程段进行框胶固化时需使用紫外线遮光板100(UV glass),利用紫外线遮光板100(UV glass)上的遮光图案130遮蔽显示区(AA)区配向膜(PI)及液晶区域,使其不受紫外光照射之影响,同时将框胶部位暴露于紫外光照射下以达到固化之目的。本发明公开一种低成本、高精度的遮光板100制作方法,具体步骤如下所述:
实施方案一:通过调整Canon曝光机遮罩挡板(mask blade)位置,同时搭配自由配置(free layout)曝光完成UV glass制作。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于深圳市华星光电技术有限公司,未经深圳市华星光电技术有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201110386632.2/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。