[发明专利]用于排水箱的溢流装置及设置有所述溢流装置的排水箱有效
申请号: | 201110385521.X | 申请日: | 2011-11-28 |
公开(公告)号: | CN102535764A | 公开(公告)日: | 2012-07-04 |
发明(设计)人: | 亚历山德罗·乔瓦尼尼;尼古拉·桑卡;詹马里奥·皮奇内利 | 申请(专利权)人: | 法尔塞有限公司 |
主分类号: | E04D13/04 | 分类号: | E04D13/04;E04D13/08 |
代理公司: | 北京康信知识产权代理有限责任公司 11240 | 代理人: | 余刚;吴孟秋 |
地址: | 意大利*** | 国省代码: | 意大利;IT |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 用于 水箱 溢流 装置 设置 有所 | ||
1.一种用于排水箱的溢流装置(25),所述排水箱特别是用于建筑物屋顶的排水系统的排水箱,所述溢流装置包括可拆卸的溢流附加部件(30),所述部件基本上沿一轴线(A)延伸,并且所述部件能安装在排水箱(1)上,以改变所述排水箱(1)的高度并提升进入所述排水箱(1)的水的水位,所述溢流装置的特征在于,所述部件(30)包括:底部元件(31)和顶部元件(32),沿所述轴线(A)可伸缩地结合在一起;以及高度调节装置(33),用于改变所述元件(31、32)相对于彼此沿所述轴线(A)的位置,且因此改变所述部件(30)的轴向高度。
2.根据权利要求1所述的溢流装置,其中,所述高度调节装置(33)包括支撑件(51、52),所述支撑件由所述元件(31、32)承载并相协作,以将两个所述元件(31、32)轴向地支撑在选自多个预置位置的一位置中,所述多个预置位置与所述部件(30)的相应的不同轴向高度相对应。
3.根据权利要求2所述的溢流装置,其中,所述支撑件(51、52)分别由至少一组台阶(53)和至少一个邻接台阶(54)限定,所述至少一组台阶形成在所述元件(31、32)中的一者上并具有不同的轴向高度,所述至少一个邻接台阶形成在所述元件(31、32)中的另一者上并相对于所选的一个所述台阶(53)轴向地协作。
4.根据权利要求3所述的溢流装置,其中,所述高度调节装置(33)包括两套台阶(53、54),所述两套台阶形成在相应的元件(31、32)上并朝着彼此延伸;所述元件(31、32)中的每个具有台阶(53、54),所述台阶具有不同的高度并沿所述元件(31、32)的相应侧壁(37、38)彼此周向地并排地布置在室(49)内,所述室由结合在一起的两个所述元件(31、32)限定。
5.根据权利要求3所述的溢流装置,其中,每个元件(31、32)具有至少一组台阶,并且优选地具有至少两组台阶,每组台阶均由具有递增的高度的两个或更多个台阶(53、54)组成。
6.根据权利要求5所述的溢流装置,其中,两个所述元件(31、32)的每组中的所述台阶(53、54)具有在相反方向上递增的高度。
7.根据权利要求3所述的溢流装置,其中,每个元件(31、32)具有相同的三组台阶(53、54),所述组由相同的台阶(53、54)形成并成角度地交错排列。
8.根据权利要求2所述的溢流装置,包括固定件(55),以将所述元件(31、32)相对于彼此固定在选自所述多个预置位置的所述位置中。
9.根据权利要求8所述的溢流装置,其中,所述固定件(55)包括螺钉(56),每个所述螺钉穿过一对分别形成在两个所述元件(31、32)中的对准孔(57、58)而设置;所述元件(31、32)具有的孔(57、58)布置成限定在所述元件(31、32)的每个预置位置中对准的多对孔。
10.根据权利要求1所述的溢流装置,其中,所述元件(31、32)基本上为环状同心元件并具有各自的中央套管(41、46),所述中央套管可伸缩地插入到彼此内并限定中央贯通管道(50)。
11.根据权利要求10所述的溢流装置,其中,所述套管(41、46)之间径向地设置有径向密封环(47)。
12.根据权利要求1所述的溢流装置,其中,所述底部元件(31)具有设置有周向凹槽(43)的底面(42),所述周向凹槽容纳轴向密封环(44)。
13.一种排水箱(1),特别是用于建筑物屋顶的排水系统的排水箱,其特征在于,所述排水箱包括根据权利要求1所述的溢流装置(25)。
14.根据权利要求13所述的排水箱,包括:基体(2),具有基本上为环状的顶部入口凸缘(9),所述凸缘居中地设置有用于水的入口的开口(3),所述开口与形成在所述基体(2)内的管道(4)连通;以及盖(5),设置在所述基体(2)上并设置有顶部栅格(6);并且其中,所述部件(30)可拆卸地插在所述基体(2)的所述凸缘(9)与所述盖(5)之间。
15.根据权利要求14所述的排水箱,其中,固定件(55)将所述元件(31、32)连接在一起并且还结合所述基体(2)的所述凸缘(9),以便将所述部件(30)固定至所述基体(2)。
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