[发明专利]场发射显示器及其显示阵列基板的制造方法

说明书

技术领域

本发明涉及一种场发射显示器的制造方法，尤其涉及一种场发射显示器的显示阵列基板的制造方法。

背景技术

平面显示器已取代传统的阴极射线管(CRT)而成为主流的显示器产品。在诸多平面显示技术中，又以液晶显示器最为普遍，并主导大部分的显示器市场。

但是，液晶显示器并非自发光的显示装置，其利用液晶的光阀(light valve)原理，并配合背光模块所提供的光源，而达成画面显示的效果。液晶显示器最大的缺点在于，其光利用率仅约5％。因此，其他的显示技术仍在积极发展中。

场发射显示器是自发光的显示技术，最近也备受重视。场发射显示器的量产化制造技术目前仍有瓶颈，因此至今未能大量生产。举例而言，场发射器中的栅极孔洞在制造上有一定的困难度。因此，目前急需一种改良的制造方法，期望能克服场发射器的技术瓶颈。

发明内容

为了解决现有技术的问题，本发明的一实施例提供一种显示阵列基板的制造方法，此方法包括以下步骤。首先、提供一基材，此基材包含一介电层。随后，将多个高分子颗粒附着于介电层上。再以氧等离子体处理附着的高分子颗粒，以减小每一个高分子颗粒的粒径，而使这些高分子颗粒彼此分离。然后，形成一栅极层覆盖介电层以及附着其上的高分子颗粒。再将附着在介电层上的高分子颗粒移除，而在栅极层中形成多个开口，并暴露出一部分的介电层。随后，移除暴露部分的介电层，以在介电层中形成多个孔洞。然后，于每一孔洞中形成一发射器。

依据本发明一实施方式，上述基材还包含一导电层配置于介电层下方。

依据本发明一实施方式，上述基材还包含一阻抗层位于导电层与介电层之间。

依据本发明一实施方式，附着多个高分子颗粒于介电层的步骤包含：形成一层涂布液于介电层上，其中涂布液包含多个高分子颗粒分散其中。随后，干燥此涂布层，使高分子颗粒附着于介电层上。涂布液可包含一醇类溶剂。

依据本发明一实施方式，高分子颗粒包含一材料选自聚苯乙烯、聚甲基丙烯酸甲脂以及上述组合所组成的群组。

依据本发明一实施方式，高分子颗粒的粒径为约10nm至约10μm。

依据本发明一实施方式，氧等离子体处理的步骤在温度为低于高分子颗粒的玻璃转化温度的环境中进行。

依据本发明一实施方式，栅极层包含一材料选自铬、钼、铜、铝、钕、钨、银以及上述组合所组成的群组。

依据本发明一实施方式，其中移除附着的高分子颗粒的步骤包含使用一毛刷来移除附着的高分子颗粒。

依据本发明一实施方式，其中移除附着的高分子颗粒的步骤包含以一溶剂溶解附着的高分子颗粒。

本发明的一实施例提供一种显示阵列基板的制造方法，此方法包括以下步骤。提供一基材，此基材包含一介电层。随后，将多个高分子颗粒附着于介电层上。再以氧等离子体处理附着的高分子颗粒，以减小每一个高分子颗粒的粒径，使这些高分子颗粒彼此分离。然后，形成一栅极层覆盖介电层以及附着其上的高分子颗粒。再将附着在介电层上的高分子颗粒移除，而在栅极层中形成多个开口，并暴露出一部分的介电层。随后，移除暴露部分的介电层，以在介电层中形成多个孔洞。于每一孔洞中形成一发射器，而形成一显示阵列基板。然后，将此显示阵列基板与一对向基板以间隔一间隙物的方式封合。

本发明同时具有提高亮度以及减少缺陷的优点。

附图说明

为让本发明的上述和其他目的、特征、优点与实施例能更明显易懂，所附附图的说明如下：

图1示出本发明一实施方式的显示阵列基板的制造方法的流程图。

图2A-图2G示出本发明一实施方式的制造方法中各工艺阶段的剖面示意图。

图2H示出本发明一实施方式的场发射显示器的剖面示意图。

图3A-图3G示出本发明另一实施方式的制造方法中各工艺阶段的剖面示意图。

图3H示出本发明另一实施方式的场发射显示器的剖面示意图。

其中，附图标记说明如下：

100方法

102-114步骤

200、300场发射显示器的显示阵列基板

210、310基板

212、312介电层

214、314导电层

216、316基材

218、318阻抗层

220、320涂布液

222、322高分子颗粒

230、330栅极层

234、340开口

236、336孔洞