[发明专利]制造构图延迟器的方法有效
| 申请号： | 201110378233.1 | 申请日： | 2011-11-24 |
| 公开（公告）号： | CN102662247A | 公开（公告）日： | 2012-09-12 |
| 发明（设计）人： | 卢炫宗;金镇镐;林英男;金敬镇 | 申请（专利权）人： | 乐金显示有限公司 |
| 主分类号： | G02B27/26 | 分类号： | G02B27/26;G03F7/20 |
| 代理公司： | 北京三友知识产权代理有限公司 11127 | 代理人： | 李辉;张旭东 |
| 地址： | 韩国*** | 国省代码： | 韩国;KR |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 制造 构图 延迟 方法 | ||
【权利要求书】：
1.一种制造构图延迟器的方法，所述方法包括：
限定位于所述构图延迟器中的第一延迟器区域和第二延迟器区域；
通过具有第一曝光能量的部分曝光过程在所述第一延迟器区域形成第一偏振图案；以及
通过具有第二曝光能量的整体曝光过程在所述第二延迟器区域形成第二偏振图案。
2.根据权利要求1所述的方法，其中，通过使用露出所述第一延迟器区域并遮挡所述第二延迟器区域的掩模，用具有所述第一曝光能量的第一偏振光曝光所述第一延迟器区域，来执行所述部分曝光过程；以及
其中，通过用具有所述第二曝光能量的第二偏振光曝光所述第一延迟区域和所述第二延迟器区域，来执行所述整体曝光过程。
3.根据权利要求1所述的方法，其中，通过使用在所述第一延迟器区域具有第一偏振图案并在所述第二延迟器区域具有黑图案的第一掩模，用具有所述第一曝光能量的紫外光进行曝光，来执行所述部分曝光过程；以及
其中，通过使用在所述第一延迟器区域和所述第二延迟器区域具有第二偏振图案的第二掩模，用具有所述第二曝光能量的紫外光进行曝光，来执行所述整体曝光过程。
4.根据权利要求1所述的方法，其中，所述第二曝光能量为所述第一曝光能量的60％或更小。
5.根据权利要求1所述的方法，其中，所述第一曝光能量是1～50mJ/cm2中的一个，以及
其中，所述第二曝光能量是1～30mJ/cm2中的一个，并且小于所述第一曝光能量。
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