[发明专利]一种低温等离子体处理的高性能粘结磁体及其制备方法

权利要求书

1. 一种低温等离子体处理的高性能粘结磁体，其结构由内而外依次为磁体（A）、等离子体介质层（C）和喷漆层（B），其特征在于，所述的磁体（A）为磁粉与环氧树脂、偶联剂、固化剂混合造粒、模压成型制备而成的磁体，磁体（A）表面覆有通过低温等离子表面改性处理形成等离子体介质层（C），等离子介质层（C）表面覆有通过稀释剂喷涂面漆、底漆形成的喷漆层（B）。

2.根据权利要求1所述的一种低温等离子体处理的高性能粘结磁体，其特征在于，所述的磁粉为各向同性NdFeB磁粉或各向异性NdFeB磁粉或铁氧体磁粉。

3.根据权利要求1所述的一种低温等离子体处理的高性能粘结磁体，其特征在于，所述的偶联剂为硅烷偶联剂或钛酸酯偶联剂。

4.根据权利要求1所述的一种低温等离子体处理的高性能粘结磁体，其特征在于，所述的固化剂为酸酐类固化剂或双氰胺。

5.根据权利要求1所述的一种低温等离子体处理的高性能粘结磁体，其特征在于，所述的环氧树脂、偶联剂、固化剂相对于磁体的质量含量分别为1%～4%、0.5%～1.5%、0.1%～0.4%。

6.根据权利要求1所述的一种低温等离子体处理的高性能粘结磁体，其特征在于，所述的喷漆层（B）的厚度为0.1mm～2mm。

7.根据权利要求1所述的一种低温等离子体处理的高性能粘结磁体，其特征在于，所述的等离子体介质层（C）的厚度为1nm～100nm。

8.根据权利要求1所述的一种低温等离子体处理的高性能粘结磁体，其特征在于，所述的稀释剂为JNO.20稀释剂。

9.权利要求1-8之一所述的一种低温等离子体处理的高性能粘结磁体的制备方法，其特征在于，所述的制备方法包括下述步骤：

（1）磁粉与环氧树脂、偶联剂、固化剂在丙酮溶剂中混合、干燥、造粒，制成混胶磁粉；

（2）混胶磁粉按照粒度匹配，在干压成型机上模压成型，制成磁体；

（3）磁体后序处理，包括洗磨、倒角、表面微粉去除；

（4）磁体表面通过低温等离子体表面改性处理形成等离子体介质层，其中，等离子体表面改性处理中的主要参数有：气氛为Ar气或N₂，压力为5~100Pa，功率为20~200W，气体流速为10~1000sccm，处理时间为10~100s。

10.（5）底漆、面漆通过稀释剂喷涂于等离子体介质层表面，形成喷漆层。