[发明专利]适用于FPGA的栅氧击穿反熔丝配置单元结构有效
申请号: | 201110374130.8 | 申请日: | 2011-11-22 |
公开(公告)号: | CN102427076A | 公开(公告)日: | 2012-04-25 |
发明(设计)人: | 封晴;胡小琴;宣志斌;王晓玲;胡凯;马金龙 | 申请(专利权)人: | 中国电子科技集团公司第五十八研究所 |
主分类号: | H01L27/02 | 分类号: | H01L27/02;H03K19/177 |
代理公司: | 无锡市大为专利商标事务所 32104 | 代理人: | 殷红梅 |
地址: | 214035 *** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 适用于 fpga 击穿 反熔丝 配置 单元 结构 | ||
1. 适用于FPGA的栅氧击穿反熔丝配置单元结构,其特征是:包括一个基于栅氧击穿反熔丝存储单元(FUSE)、一个编程选择控制管(M1)、一个保护内部逻辑与编程高压隔离的编程隔离管(M2),和一个控制FPGA布线通道的开关管(M3);所述基于栅氧击穿反熔丝存储单元(FUSE)栅极连接编程选择控制管(M1)漏极和编程隔离管(M2)源极,基于栅氧击穿反熔丝存储单元(FUSE)的有源区接地;编程选择控制管(M1)栅极由外部配置信号控制,编程选择控制管(M1)源极与衬底接电源电压;编程隔离管(M2)栅极由外部控制信号控制开启与否,编程隔离管(M2)衬底接电源,编程隔离管(M2)漏极连接控制FPGA布线通道的开关管(M3)栅极,控制FPGA布线通道的开关管(M3)源极与漏极连接在外部信号通道中,控制FPGA布线通道的开关管(M3)衬底接地。
2.根据权利要求1所述适用于FPGA的栅氧击穿反熔丝配置单元结构,其特征是,所述电源电压分为配置单元正常工作电压VDD和反熔丝存储单元编程电压VPP,且VPP>VDD。
3.根据权利要求2所述适用于FPGA的栅氧击穿反熔丝配置单元结构,其特征是,由所述外部配置信号的配置码点对单元进行配置,并输出配置存储信息。
4.根据权利要求3所述适用于FPGA的栅氧击穿反熔丝配置单元结构,其特征是,编程选择控制管(M1)由FPGA配置软件产生的码流控制开启与否,当配置码点的数据为“1”时,编程选择控制管(M1)关闭,基于栅氧击穿反熔丝存储单元(FUSE)未被编程;当配置码点数据为“0”时,编程选择控制管(M1)打开,此时基于栅氧击穿反熔丝存储单元(FUSE)一端为电压VPP,另一端接地,当维持一段有效编程时间后,所述基于栅氧击穿反熔丝存储单元(FUSE)被编程,实现低阻连接。
5.根据权利要求4所述适用于FPGA的栅氧击穿反熔丝配置单元结构,其特征是,在工作阶段,已编程的基于栅氧击穿反熔丝存储单元(FUSE)通过低阻连接使所述控制FPGA布线通道的开关管(M3)栅极连接至地,维持所述控制FPGA布线通道的开关管(M3)关闭;未编程的基于栅氧击穿反熔丝存储单元(FUSE)由于编程选择控制管(M1)的亚阈值漏电特性,使基于栅氧击穿反熔丝存储单元(FUSE)栅端充电至电压VDD,保持所述控制FPGA布线通道的开关管(M3)开启。
6.根据权利要求1所述适用于FPGA的栅氧击穿反熔丝配置单元结构,其特征是,所述编程选择控制管(M1)和编程隔离管(M2)均为高压PMOS管,所述控制FPGA布线通道的开关管(M3)为NMOS管。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L27-00 由在一个共用衬底内或其上形成的多个半导体或其他固态组件组成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共绝缘衬底上形成的无源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有专门适用于整流、振荡、放大或切换的半导体组件并且至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的;包括至少有一个跃变势垒或者表面势垒的无源集成电路单元的
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H01L27-15 .包括专门适用于光发射并且包括至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的半导体组件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料结点的热电元件的;包括有热磁组件的