[发明专利]有机电致发光装置及其制备方法

说明书

【技术领域】

本发明涉及有机电致发光器件领域，特别是涉及一种有机电致发光装置及其制备方法。

【背景技术】

有机电致发光二极管(Organic Light-Emitting Diode)，以下简称OLED，具有亮度高、材料选择范围宽、驱动电压低、全固化主动发光等特性，同时拥有高清晰、广视角，以及响应速度快等优势，是一种极具潜力的显示技术和光源，符合信息时代移动通信和信息显示的发展趋势，以及绿色照明技术的要求，是目前国内外众多研究者的关注重点。

有机电致发光二极管具有一种类似三明治的结构，其上下分别是阴极和阳极，二个电极之间夹着单层或多层不同材料种类和不同结构的有机材料功能层。有机电致发光器件是载流子注入型发光器件，在阳极和阴极加上工作电压后，空穴从阳极，电子从阴极分别注入到工作器件的有机材料层中，两种载流子在有机发光材料中形成空穴-电子对发光，然后光从电极一侧发出。大部分的OLED使用透明的铟掺杂氧化锡(ITO)薄膜作为阳极，光从阳极的一侧发出，制得底发射或顶发射OLED装置。

当把阴极也做成透明的时候，也可以制作成穿透式的照明装置，实现360度的全方位照明，还可以扩大有机电致发光二极管的应用领域。但是通常采用阴极材料的可见光透过率要明显低于阳极ITO的透过率，虽然ITO导电薄膜具有高透过率，但是由于其制备工艺复杂，并且一般不能直接在有机层基底上制备，因此采用普通工艺难以制作成高透光率的阴极。

【发明内容】

基于此，有必要提供一种高出光率的双面出光有机电致发光装置。

进一步，提供上述有机电致发光装置的制备方法。

一种有机电致发光装置，包括依次层叠的透明基板、阴极、有机电致发光层和透明阳极，所述阴极包括依次层叠在所述透明基板上的透明导电氧化物薄膜和金属修饰层，所述金属修饰层的材料选自银、铝、镁、钕、钐和镱中的一种，且所述金属修饰层的厚度为4～10纳米。

优选的，所述透明导电氧化物薄膜的材料选自铟掺杂氧化锡、氧化锌、铟掺杂氧化锌、铝掺杂氧化锌和镓掺杂氧化锌中的一种。

优选的，所述透明导电氧化物薄膜的厚度为80～120纳米。

优选的，所述透明阳极包括依次层叠在所述有机电致发光层上的氧化物层、金属层和硫化锌层，所述氧化物层的厚度为5～10纳米，所述金属层的厚度为18～25纳米，所述硫化锌层的厚度为40～70纳米。

优选的，所述氧化物的层的材料为氧化钼、氧化钨、五氧化二钒或一氧化硅，所述金属层的材料为银、铝或金。

优选的，所述有机电致发光层包括依次层叠在所述阴极上的电子注入层、电子传输层、发光层、空穴传输层和空穴注入层。

优选的，所述电子注入层的材料为氟化锂，所述电子传输层的材料为(8-羟基喹啉)-铝，所述发光层的材料为二(4，6-二氟苯基-N，C2)吡啶甲酰合铱和4，4′-N，N-二咔唑基-联苯的混合材料，所述空穴传输层的材料为N，N′-二苯基-N，N′-二(1-萘基)-1，1′-联苯-4，4′-二胺，所述空穴注入层的材料为4，4′，4″-三(N-3-甲基苯基-N-苯基氨基)三苯胺。

一种有机电致发光装置的制备方法，包括以下步骤：

步骤一：提供透明基板；

步骤二：在所述透明基板的表面溅射制备透明导电氧化物薄膜；

步骤三：在所述透明导电氧化物薄膜的表面蒸镀金属修饰层制得阴极，所述金属修饰层的材料选自的材料选自银、铝、镁、钕、钐和镱中的一种，且所述金属修饰层的厚度为4～10纳米；

步骤四：在所述阴极上蒸镀有机电致发光层；及

步骤五：在所述有机电致发光层上蒸镀透明阳极，得到所述有机电致发光装置。

优选的，步骤一还包括透明基板的洗涤，首先将基板放在含有洗涤剂的去离子水中进行超声清洗，清洗干净后依次在异丙醇，丙酮中用超声波处理20分钟，然后再用氮气吹干。

优选的，步骤五中，所述透明阳极的蒸镀方法为：先蒸镀氧化物层，然后蒸镀金属层，最后蒸镀硫化锌层。

上述有机电致发光装置的阳极为透明阳极，阴极包括依次层叠在透明基板上的透明导电氧化物薄膜和金属修饰层，金属修饰层的材料选自银、铝、镁、钕、钐和镱中的一种，且金属修饰层的厚度为4～10纳米。透明导电氧化物薄膜具有像玻璃一样高的透明性，且金属修饰层为透光好的薄层金属层，使得阴极具有较高的透光性，有机电致发光层发出的光线可以同时通过阴极的一侧和阳极的一侧发出，从而获得具有高出光率的双面出光有机电致发光装置。