[发明专利]一种基于电机和机床位置双反馈的轴运动控制方法

权利要求书

1.一种基于电机和机床位置双反馈的轴运动控制方法，其特征在于，对轴运动指令利用伺服电机编码器反馈与机床位置传感装置进行轴运动规划，形成加工过程中的轴速度设置值，由轴控制部分实现加工过程中轴运动插补点，经PID控制实现对轴传动装置中伺服电机的平稳转动。

2.根据权利要求1所述的一种基于电机和机床位置双反馈的轴运动控制方法，其特征在于，所述轴运动规划为在轴运动过程中，通过机床轴最终执行端的外接位置传感装置所得轴反馈位置，与伺服电机编码器反馈计算所得轴反馈位置，二者之差对轴运动规划位置点不断进行修正，重新计算运动规划剩余距离。

3.根据权利要求1所述的一种基于电机和机床位置双反馈的轴运动控制方法，其特征在于，所述轴运动规划处于规划加速阶段、规划匀速阶段或轴命令进给速度变化规划阶段时，轴控制采用基于电机和机床位置双反馈动态修正的闭环控制，增加对上一周期插补命令位置点及规划剩余距离进行全闭环修正：

lastCmdPos＝LastCmdPos+posCorrection；

remDis＝remDis-posCorrection；

其中lastCmdPos表示上一周期的插补命令位置点，posCorrection表示轴位置反馈修正量，remDis表示规划剩余距离；PID控制采用基于电机和机床位置双反馈动态修正的闭环PID控制；

所述轴运动规划处于规划减速阶段或定位完成阶段时，轴控制采用全闭环控制；PID控制采用全闭环PID控制；

所述轴运动规划处于轴无运动阶段时，轴控制采用半闭环控制；PID控制采用轴定位点半闭环PID控制。

4.根据权利要求3所述的一种基于电机和机床位置双反馈的轴运动控制方法，其特征在于，所述半闭环控制，是指抛开机床轴执行终端的直接反馈，即外接位置传感装置。

5.根据权利要求3所述的一种基于电机和机床位置双反馈的轴运动控制方法，其特征在于，所述全闭环控制，是指在机床轴的最终执行端设置监测，即外接位置传感装置，反馈回的信号直接用于机床轴运动的调整，而与伺服电机编码器的反馈无关。

6.根据权利要求1所述的一种基于电机和机床位置双反馈的轴运动控制方法，其特征在于，所述外接位置传感装置可以为光栅尺、球栅尺，也可以为旋转轴的外接编码器。