[发明专利]湿法氧化铜片烧结直接敷铜的方法无效
| 申请号： | 201110364467.0 | 申请日： | 2011-11-17 |
| 公开（公告）号： | CN103113126A | 公开（公告）日： | 2013-05-22 |
| 发明（设计）人： | 井敏;贺贤汉 | 申请（专利权）人： | 上海申和热磁电子有限公司 |
| 主分类号： | C04B37/02 | 分类号： | C04B37/02 |
| 代理公司： | 上海东方易知识产权事务所 31121 | 代理人： | 沈原 |
| 地址： | 200444 上海市宝*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 湿法 氧化 铜片 烧结 直接 方法 | ||
【权利要求书】：
1.湿法氧化铜片烧结直接敷铜的方法，其特征在于，包括如下步骤：
第一步，对铜片进行预先表面处理；
第二步，将经过表面处理的铜片放入处理溶液中氧化；
第三步，将经过氧化的铜片进行清洗并烘干；
第四步，将烘干的铜片放入模具中预弯；
第五步，将预弯完毕的铜片放置在陶瓷片上烧结。
2.根据权利要求1所述的湿法氧化铜片烧结直接敷铜的方法，其特征在于，所述处理溶液为NaOH和K2S2O8的混合溶液。
3.根据权利要求2所述的湿法氧化铜片烧结直接敷铜的方法，其特征在于，所述处理溶液的比例是K2S2O8为27g/L～31g/L、NaOH为3g/L～5g/L或K2S2O8为83g/L～90g/L、NaOH为22g/L～31g/L。
4.根据权利要求3所述的湿法氧化铜片烧结直接敷铜的方法，其特征在于，所述处理溶液的温度为35℃～45℃或30℃～45℃。
5.根据权利要求1所述的湿法氧化铜片烧结直接敷铜的方法，其特征在于，所述第二步中的氧化时间为2min～10min或2min～5min。
6.根据权利要求1所述的湿法氧化铜片烧结直接敷铜的方法，其特征在于，所述第三步中烘干包括热风烘干或烘箱烘干。
7.根据权利要求1所述的湿法氧化铜片烧结直接敷铜的方法，其特征在于，所述模具的形状为圆形。
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