[发明专利]水汽探测用激光芯片的制造方法无效

专利信息
申请号: 201110355379.4 申请日: 2011-11-10
公开(公告)号: CN102364771A 公开(公告)日: 2012-02-29
发明(设计)人: 于红艳;周旭亮;邵永波;王宝军;潘教青;王圩 申请(专利权)人: 中国科学院半导体研究所
主分类号: H01S5/343 分类号: H01S5/343;H01S5/22
代理公司: 中科专利商标代理有限责任公司 11021 代理人: 汤保平
地址: 100083 *** 国省代码: 北京;11
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摘要:
搜索关键词: 水汽 探测 激光 芯片 制造 方法
【说明书】:

技术领域

发明涉及半导体激光检测器技术领域,具体为在量子阱结构中采用 大导带能量差的InGaAlAs材料做垒,结合常规的湿法腐蚀和光刻工艺的 一种水汽探测用激光芯片的制造方法。

背景技术

我国幅员广阔,气象现象比较复杂,自然灾害(如冻雨雪、夏季的大 暴雨)时有发生,一旦发生将使国家损失惨重,气象预报的重要性不言而 喻。水汽是大气探测的四大要素之一,如果能对其进行实时准确的探测, 对天气预报的准确性具有重要意义。目前,国内外主要采用电湿度计测量 大气湿度,如芬兰Vaisala公司的Humicap型湿度计。电湿度计,包括湿 敏电阻和湿敏电容等,虽然响应速度快、受环境温度影响小,线性度好; 但对湿度测量有很大的滞后效应,在高温高湿环境下退湿困难的问题尤其 严重,甚至会导致观测数据错误。而且寿命短(3-6个月)。另外,像称重 法等高精度的湿度计,虽然测量范围宽,但反应慢,操作繁琐,需要人工 操作,也不能适应苛刻的环境条件,无法在线实时监测。由此可见,传统 的气象传感器存在许多问题。

近年来可调谐二极管激光吸收光谱(TDLAS)技术在气体分析中逐渐成 熟起来,其单线光谱分析技术具有许多独特的优点,如高光谱分辨率、高 灵敏度、高选择性、快速实时等。TDLAS技术中最主要的部件就是作为光 源的可调谐分布反馈半导体(DFB)激光器。DFB激光器可以保证系统以某一 精确的波长为目标,避免背景气体的交叉干扰,并且其波长可以被温度和 电流调谐,是一个非常可靠的组件。

水汽的吸收谱线主要分布在1.8-1.9微米的近红外波段,水汽探测用 DFB激光芯片的激射波长对应于水汽的吸收峰。DFB激光器随着波长的增 加,由俄歇复合、带间吸收等导致的光损耗也增加,这导致激光器性能下 降。当高温工作时,激光器性能下降更快,即激光器的特征温度较低,因 此提高长波长激光器的特征温度成为制备高性能器件的关键。若给激光器 量子阱中的电子以更强的束缚能力,更大的限制载流子从量子阱中的泄 露,可显著减小激光器的温度依赖性,即提高器件的特征温度。

发明内容

本发明的目的在于,提供一种水汽探测用激光芯片的制造方法。本发 明采用导带能量差较大的InGaAlAs材料做垒,对电子具有更强的限制能 力,减小漏电流,提高了器件的特征温度。同时,上下波导层采用与InP 衬底晶格匹配的InGaAsP材料,避免在完成光栅工艺之后的二次生长中出 现Al氧化问题。

本发明提供一种水汽探测用激光芯片的制造方法,包括如下步骤:

步骤1:在n型InP衬底上依次外延生长InP缓冲层、下波导层、多 量子阱结构、上波导层和p-n反型层;

步骤2:采用全息曝光法在p-n反型层和上波导层上制作复耦合光栅;

步骤3:在复耦合型光栅上二次外延生长出第一p-InP盖层、刻蚀停 止层、第二p-InP盖层和p-InGaAs接触层;

步骤4:在第二p-InP盖层和p-InGaAs接触层上腐蚀出脊型波导结构, 并大面积淀积二氧化硅层;

步骤5:刻蚀掉中间的脊型波导结构上面的二氧化硅层,形成窗口;

步骤6:在脊型波导结构和窗口的表面溅射出P面电极并蒸发出N面 电极。

其中所述多量子阱结构中压应变的量子阱材料为InGaAs,应变量为 2.0-2.4%,垒材料为与n型InP衬底晶格匹配,带隙波长为1.23μm的 InGaAlAs。

其中垒材料InGaAlAs与阱材料InGaAs的导带能量差比InGaAsP与阱 材料InGaAs的导带能量差大。

其中所述下波导层以及上波导层所采用的材料为带隙波长为1.3μm 的InGaAsP。

附图说明

为了进一步说明本发明的技术内容,以下结合说明书附图对本发明作 详细的描述,其中:

图1为在n-InP衬底上一次外延后的端面结构示意图;

图2为制备光栅后的侧面结构示意图;

图3为二次外延后的端面结构示意图;

图4为制备脊型波导结构并在其上大面积淀积二氧化硅层后的端面结 构示意图;

图5为刻制出脊型波导窗口后的端面结构示意图;

图6为溅射P面电极和蒸发N面电极后的端面结构示意图。

具体实施方式

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