[发明专利]一种去除碲镉汞界面层的霍尔样品制备方法

权利要求书

1.一种去除碲镉汞界面层的霍尔样品制备方法，其特征在于包括以下步骤：

1)采用常规清洗碲镉汞外延层的方法清洗抗腐蚀基底(4)和碲镉汞外延层材料，保持材料及抗腐蚀基底表面的清洁；

2)使用抗腐蚀黏胶(3)将清洗干净的碲镉汞外延材料(2)与抗腐蚀基底(4)粘紧，并放于烘箱中烘干，使碲镉汞外延材料与抗腐蚀基底紧密接触；

3)使用选择性腐蚀剂去除碲锌镉衬底(1)，选择性腐蚀剂选用盐酸、硝酸和重铬酸钾，其摩尔配比为：盐酸∶硝酸∶重铬酸钾＝30-80∶20-60∶1-5；

4)采用溴甲醇溶液腐蚀去除碲锌镉衬底(1)的外延层材料，消除可能存在的界面层，溴甲醇溶液选用1‰～5％的溴甲醇稀释溶液；

5)在去除界面层的碲镉汞外延材料(2)的四角上焊上后续进行霍尔测试所需的In电极(2-1)。

2.根据权利要求1所述的一种去除碲镉汞界面层的霍尔样品制备方法，其特征在于：步骤1)中所述的抗腐蚀基底选用1～3mm厚的宝石片。