[发明专利]一种塑胶结构表面拉丝工艺有效
申请号: | 201110353253.3 | 申请日: | 2011-11-03 |
公开(公告)号: | CN102501382A | 公开(公告)日: | 2012-06-20 |
发明(设计)人: | 郭远军;彭宜学;蒋小龙 | 申请(专利权)人: | 东莞劲胜精密组件股份有限公司 |
主分类号: | B29C69/00 | 分类号: | B29C69/00 |
代理公司: | 广州粤高专利商标代理有限公司 44102 | 代理人: | 罗晓林;李志强 |
地址: | 523878 广东*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 塑胶 结构 表面 拉丝 工艺 | ||
技术领域
本发明属于表面处理工艺技术领域,具体涉及一种塑胶结构表面拉丝工艺。
背景技术
IMD(In-Mold Decoration)是一种在注塑模具内放置Film薄膜来装饰塑胶外观表面的新技术。目前IMD有两种制造方法:一种是把印刷好的Film薄膜制作成循环滚筒卷状带,安装到注塑机和注塑模具内,像标签Label贴到前模面上全自动地循环带移动式的生产出来,该方法称之为IMD(模具内转印注塑);另一种是把Film薄膜印刷好经过成型机成型,再经过剪切后放置到注塑模具内生产出来的,该方法称之为IML(模具内贴膜注塑)。
目前,塑胶结构表面拉丝的工艺主要有以下几种:
1.注塑模具凹模腔内蚀刻出拉丝纹路,注塑过程中把该纹路转压在产品表面,该工艺的缺陷是:表面纹路粗糙,且没有触摸感(凹凸感不强);表面硬度不高,容易磨平(拉丝效果消失);不能做表面处理,只能做些低端注塑料本色的结构件。
2.片材的拉丝面朝外的IML工艺,由于该工艺的侧面拉丝纹路会拉弯,所以外观效果层次感很差,且由于拉伸性的局限性,侧面拉伸高度小于5mm,所以该工艺一直未能满足客户的需要。
3.UV转印局部拉丝的IML工艺,该工艺主要问题是在IML热压成形过程中拉丝纹路容易拉弯,且侧面拉伸高度小于5mm。
另外,还有基于UV转印技术和侧面高光的IML工艺,该IML工艺具体包括如下四个步骤:
步骤1.
基膜片材压纹:在基膜片材的一面涂布UV层,用电铸模具对该UV层压纹后,再进行UV固化,则该UV固化后的一面为基膜片材正面,则反面也就是未涂布UV层及UV固化的一面为基膜片材背面;
步骤2.
印刷:在步骤1处理后的基膜片材的背面上印刷LOGO,接着在LOGO上依次涂布效果色层、保护层和粘结剂层;
步骤3.
冲切:将步骤2处理后的片材根据实际需要冲切成合适的产品尺寸;
步骤4.
注塑:将步骤3处理后的片材植入模腔注塑,从而得到所需塑胶结构件。
但是,上述工艺依然存在表面触摸感差、表面耐磨性差和表面硬度不高等缺点,而且这种IML工艺都是边缘完全包覆,因此其侧面大面积位高光区域,产品很容易出现刮伤和拉伤。
所以,如何开发出高硬度、高质感和高触摸感的塑胶结构件成为塑胶结构行业的的研发方向,同时也是未来塑胶行业在市场的主要新工艺之一。
发明内容
本发明的目的在于针对现有技术的不足,提供一种可制备具有高硬度、高质感、高触摸感和侧面高光等特点塑胶结构的表面拉丝工艺
本发明的上述目的是通过如下方案予以实现的:
针对现有技术存在的不足,发明人进行研究后得到一种可有效解决其缺陷的塑胶结构表面拉丝工艺,该工艺是对现有基于UV转印和侧面高光的IML工艺的改进,其具体改进如下所示:
改进1.
针对步骤1的基膜片材压纹操作,现有所用基膜片材均为PET材质,而本发明人研究发现PET材料为结晶体,UV层很难咬合进去,拉丝UV层容易脱落,从而造成表面耐磨性差的问题;因此,发明人考虑选择一种合适的,既能保证塑料件表面拉丝品质,又能有效解决表面耐磨性差的基膜片材材料,通过对大量备选材料进行研究后,发明人选择PC材料来替换PET材料来作为基膜片材,基膜片材采用PC材料,则UV层能够咬合到基材层,从而使得UV层具有良好的耐磨性;同时发明人还对PC材料基膜片材的厚度进行了优化,选择PC材料基膜片材的厚度为0.1mm,因为发明人经研究后发现0.1mm的基材比较薄,不易造成产品注塑后变形。
改进2.
针对步骤1的基膜片材压纹操作,本发明通过调整UV层厚度从而解决UV固化层表面触摸感差的问题,本发明的UV层厚度采用4。5um。
本发明人通过实验研究发现,如果UV层厚度太厚则会开裂,如果太薄则没有触摸感,因此通过实验分析和数据优化后,选择UV层厚度为4.5um。
改进3.
针对步骤1的基膜片材压纹操作,本发明选择精工公司生产的高硬度UV油墨来改善UV层表面硬度差的问题,本发明的UV油墨采用UV4700;UV油墨的种类很多,但本发明人通过研究发现,很多UV油墨无法实现发明目的,通过对大量UV油墨进行实验研究和数据分析后,发明人发现UV4700的硬度和拉伸性能够很好地解决UV层表面硬度差的问题。
改进4.
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