[发明专利]一种彩膜基板及其制造方法、液晶显示装置

说明书

技术领域

本发明涉及液晶显示领域，尤其涉及一种彩膜基板及其制造方法、液晶显示装置。

背景技术

在TFT-LCD(Thin Film Transistor-Liquid Crystal Display，薄膜晶体管液晶显示器)中，液晶显示面板是由彩膜基板和阵列基板对盒而成的，且液晶层夹设在彩膜基板和阵列基板之间。为了保证液晶层的厚度的均一性，需要设置隔垫物。在目前的隔垫物设计中，通常采用主隔垫物和副隔垫物相结合的结构。

如图1所示，彩膜基板100包括基板11、黑矩阵12、彩膜13、绝缘层16、公共电极层17，主隔垫物18和副隔垫物19。其中，彩膜13包括按顺序排列的红绿蓝三种滤光层(三种滤光层在图示中分别用不同的填充标识)。另外，主隔垫物18与副隔垫物19的高度不同，主隔垫物的高度为d₁，副隔垫物的高度d₂，且d₁比d₂大；主隔垫物18用来控制液晶层的厚度，副隔垫物19是在液晶显示面板受到外界压力时，与主隔垫物18共同承压，使得液晶层保持一定厚度。

但是，在制造上述主隔垫物18和副隔垫物19的过程中，若采用负性光刻胶作为制造隔垫物的材料，则在主隔垫物18的对应位置所需要的曝光量较大，在副隔垫物19的对应位置所需要的曝光量较小；对于同一层材料进行曝光量不同的光刻工艺时，现有技术中通常采用半透光(Half-tone)或灰阶(Gray-tone)工艺；在半透光或灰阶工艺中，曝光量的微小变化会严重影响工艺的结果，即很容易出现副隔垫物的高度不均等问题，从而影响产品的良率。

发明内容

本发明的实施例提供一种彩膜基板及其制造方法、液晶显示装置，用以提高产品的良率。

为达到上述目的，本发明的实施例采用如下技术方案：

一方面，提供一种彩膜基板，包括：黑矩阵和彩膜；在所述黑矩阵正对区域内设置有至少一个主隔垫物和至少一个副隔垫物；其特征在于，在所述主隔垫物和所述黑矩阵之间且与所述主隔垫物正对的位置上，设置有预定厚度的增高层，且所述主隔垫物和所述副隔垫物的高度相同。

一方面，提供一种彩膜基板的制造方法，包括：

利用构图工艺，在透明基板上形成黑矩阵；

利用构图工艺，在形成黑矩阵的基板上形成增高层和至少三种滤光层；

在形成所述滤光层和所述增高层的基板上，制作高度相同的主隔垫物和副隔垫物，其中，所述主隔垫物设置在所述增高层正对的位置上。

一方面，提供一种液晶显示装置，包括上述的彩膜基板。

本发明实施例提供一种彩膜基板及其制造方法、液晶显示装置，在主隔垫物和黑矩阵之间且与主隔垫物正对的位置上，设置有预定厚度的增高层，且主隔垫物和副隔垫物的高度相同；以透明基板所在平面为参考面，主隔垫物比副隔垫物高出上述的预定厚度，该预定厚度为现有技术中所需要的主隔垫物与副隔垫物的高度差，主、副隔垫物高度相同，从而可以利用普通掩膜板的光刻工艺，相对于现有技术中采用半透光(Half-tone)或灰阶(Gray-tone)工艺，降低了工艺难度，提高了产品的良率。

附图说明

为了更清楚地说明本发明实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本发明的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。

图1为现有技术中彩膜基板的截面图；

图2为本发明实施例中彩膜基板的截面图；

图3、图4、图5为本发明实施例彩膜基板制造过程的示意图。

附图标记：

100-彩膜基板；11-透明基板；12-黑矩阵；13-彩膜；131-红色滤光层；132-绿色滤光层；133-蓝色滤光层；16-绝缘层；17-公共电极层；18-主隔垫物；19-副隔垫物；21-第一增高层；22-第二增高层。

具体实施方式

下面将结合本发明实施例中的附图，对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。