[发明专利]辐照密度高均匀性的ArF激光薄膜元件损伤测试装置

权利要求书

1.辐照密度高均匀性的ArF激光薄膜元件损伤测试装置，其特征在于，该装置包括：ArF激光传输模块、样品表面ArF激光辐射能量密度实时监控模块、光学薄膜样品表面损伤的实时监控与判别模块、电动样品控制台和实验同步控制与数据采集模块；

所述ArF激光传输模块发射并传输辐射能量密度高均匀性的ArF激光，入射到薄膜元件样品表面；

所述样品表面ArF激光辐射能量密度实时监控模块，用于获得薄膜元件样品表面ArF激光的辐射能量密度，通过实验同步控制与数据采集模块控制其测量动作，并将ArF激光辐射能量密度信息数据传送反馈到至实验同步控制与数据采集模块；

所述光学薄膜样品表面损伤实时监控与判别模块，通过探测He-Ne激光入射到薄膜元件样品表面上ArF激光辐照光斑位置产生的散射光强变化，对ArF激光辐照薄膜元件样品表面是否损伤进行判别，由实验同步控制与数据采集模块控制其动作，并将判别信号传送至实验同步控制与数据采集模块；

所述电动样品控制台通过实验同步控制与数据采集模块发出的指令实现水平和垂直两个方向的精密移动；

所述实验同步控制与数据采集模块分别对ArF激光传输模块，样品表面ArF激光辐射能量密度实时监控模块，光学薄膜样品表面损伤实时监控与判别模块和电动样品控制台进行同步制；收集样品表面ArF激光辐射能量密度实时监控模块，光学薄膜样品表面损伤实时监控与判别模块产生的信号数据，并进行数据的处理和判断。

2.如权利要求1所述的辐照密度高均匀性的ArF激光薄膜元件损伤测试装置，其特征在于，所述ArF激光传输模块包括：ArF激光器(10)、电控可变衰减器(11)、准直扩束镜组(12)、反射镜(13)、匀束器镜组(14)、快门(15)、第一楔形分束镜(16)、聚焦透镜组(17)、第二楔形分束镜(18)和充N₂气保护管路(19)；所述ArF激光器(10)发射的激光入射到电控可变衰减器(11)中，由电控可变衰减器(11)调节激光的功率密度，出射激光经过准直扩束镜组(12)，由原来的长宽比2∶1变为1∶1，之后经由反射镜(13)反射到匀束器镜组(14)，匀束器镜组(14)将ArF激光束的不均匀性降到小于3％，然后由快门(15)控制ArF激光束的通过，并入射到第一楔形分束镜(16)，把光束分成两部分，沿原方向直通的光入射到聚焦透镜组(17)，经会聚入射到第二楔形分束镜(18)，第二楔形分束镜(18)把入射光分成两部分，其中直通光入射辐照到样品表面；所述充N₂气保护管路(19)充N₂气并保护ArF激光传输模块在发射并传输ArF激光的过程中不受外界环境污染干扰。

3.如权利要求1所述的辐照密度高均匀性的ArF激光薄膜元件损伤测试装置，其特征在于，所述样品表面ArF激光辐射能量密度实时监控模块包括能量计(20)和光束质量分析仪(21)，能量计(20)接收第一楔形分束镜(16)分束的反射光，用于实时监控样品表面的ArF激光辐射能量，光束质量分析仪(21)接收第二楔形分束镜(18)分束的反射光，用于实时监测ArF辐射激光的光斑大小；能量计(20)和光束质量分析仪(21)由实验同步控制与数据采集模块实现同步控制，并分别将所测量得到的ArF激光辐射能量和样品表面的光斑大小发送至控制实验同步控制与数据采集模块。

4.如权利要求3所述的辐照密度高均匀性的ArF激光薄膜元件损伤测试装置，其特征在于，所述光束质量分析仪(21)的位置与辐照样品位置成共轭关系。