[发明专利]固态成像装置和电子设备

权利要求书

1.一种固态成像装置，包括：

像素区域，形成在半导体衬底上；

该像素区域中的有效像素区域和遮蔽的光学黑色区域；

多层布线层，形成在该半导体衬底的光入射侧的相反侧的表面上；

支撑衬底，接合到该多层布线层侧的表面；以及

抗反射结构，形成在该支撑衬底的接合表面侧。

2.根据权利要求1所述的固态成像装置，

其中该抗反射结构包括：

该支撑衬底的表面；

该支撑衬底的表面侧的绝缘膜；以及

设置在该支撑衬底和该绝缘膜之间的膜，该膜具有该支撑衬底的折射率和该绝缘膜的折射率之间的中间折射率。

3.根据权利要求1所述的固态成像装置，

其中该抗反射结构具有该支撑衬底的表面上的蛾眼结构。

4.根据权利要求3所述的固态成像装置，还包括：

平坦化膜，形成在该蛾眼结构的表面上，

其中该支撑衬底包括硅衬底，并且

该多层布线层和该支撑衬底彼此接合在该平坦化膜和该多层布线层之间。

5.一种电子设备，包括：

固态成像装置；

光学系统，将入射光引入到该固态成像装置的光电转换部分；以及

信号处理电路，处理该固态成像装置的输出信号，

该固态成像装置包括：像素区域，形成在半导体衬底上；该像素区域中的有效像素区域和遮蔽的光学黑色区域；多层布线层，形成在该半导体衬底的光入射侧的相反侧的表面上；支撑衬底，接合到该多层布线层侧的表面；以及抗反射结构，形成在该支撑衬底的接合表面侧。

6.根据权利要求5所述的电子设备，

其中该抗反射结构包括：

该支撑衬底的表面；

该支撑衬底的该表面侧的绝缘膜；以及

设置在该支撑衬底和该绝缘膜之间的膜，该膜具有该支撑衬底的折射率和该绝缘膜的折射率之间的中间折射率。

7.根据权利要求5所述的电子设备，

其中该抗反射结构具有该支撑衬底的表面上的蛾眼结构。

8.根据权利要求7所述的电子设备，还包括：

平坦化膜，形成在该蛾眼结构的表面上，

其中该支撑衬底包括硅衬底，并且

该多层配线层和该支撑衬底彼此接合在该平坦化膜和该多层配线层之间。