[发明专利]液晶显示装置及其制造方法无效

专利信息
申请号: 201110341164.7 申请日: 2011-11-02
公开(公告)号: CN102402042A 公开(公告)日: 2012-04-04
发明(设计)人: 肖丹;何春 申请(专利权)人: 深圳市华星光电技术有限公司
主分类号: G02F1/1335 分类号: G02F1/1335;G02F1/1333
代理公司: 深圳翼盛智成知识产权事务所(普通合伙) 44300 代理人: 欧阳启明
地址: 518132 广东*** 国省代码: 广东;44
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 液晶 显示装置 及其 制造 方法
【说明书】:

技术领域

发明涉及液晶显示领域,特别是涉及一种液晶显示装置及其制造方法。

背景技术

随着液晶显示技术的飞速发展,高质量的显示屏需要更高的分辨率和更广的视角显示效果。对于垂直配向模式的液晶显示器,一般将液晶显示器的像素区域进行配向分割,使得每个像素区域的液晶分子向不同的方向产生倾斜,因此在施加电压后,在多个角度都可以看见光线,从而可以提升液晶显示器的广视角显示效果。

传统对液晶显示器的像素区域进行配向分割包括以下两种方式:

1、通过在钝化层上形成凸起,使液晶显示器的每个像素区域的液晶分子向不同的方向产生倾斜,在加电压时液晶倾斜于不同的方向以改善液晶显示器的视角。但是,在钝化层上制作凸起以及制作凸起时的控制比较困难。

2、利用蚀刻技术,在透明电极层挖裂缝或者开口形成多配向区域,从而达到上述技术的效果,但是使用这种技术,需要在透明电极层挖裂缝或者开口,其制作工艺也比较复杂。

故,有必要提供一种液晶显示装置及其制造方法,以解决现有技术所存在的问题。

发明内容

本发明的目的在于提供一种液晶显示装置及其制造方法,以解决现有技术的液晶显示装置制作困难的技术问题。

本发明涉及一种液晶显示装置,包括两块玻璃基板以及设置所述两块玻璃基板之间的液晶层,所述玻璃基板上形成有多个像素区域,其中在至少一块玻璃基板与所述液晶层相邻的一侧依次设置有光阻层和透明电极层,所述光阻层在每个像素区域形成至少一个凹陷和/或至少一个凸起。

在本发明的液晶显示装置中,所述光阻层在每个像素区域形成至少一个凹陷以及所述凹陷四周的多个凸起。

在本发明的液晶显示装置中,所述光阻层在每个像素区域形成至少一个凸起以及所述凸起四周的多个凹陷。

在本发明的液晶显示装置中,所述凹陷和/或凸起的截面宽度为0.5微米-20微米。

在本发明的液晶显示装置中,所述凹陷和/或凸起的截面深度为100埃-1000埃。

在本发明的液晶显示装置中,所述凹陷和/或凸起的截面形状为圆形、四边形或多边形。

在本发明的液晶显示装置中,所述两玻璃基板分别为第一玻璃基板和第二玻璃基板,所述第一玻璃基板及所述第二玻璃基板上形成有多个像素区域;所述第一玻璃基板与所述第二玻璃基板上均形成有光阻层。

在本发明的液晶显示装置中,所述第一玻璃基板上的光阻层与第二玻璃基板上的光阻层形状不同。

在本发明的液晶显示装置中,所述第一玻璃基板上的光阻层在每个像素区域形成至少一个凹陷,所述第二玻璃基板上的光阻层在每个像素区域形成至少一个凸起;或所述第一玻璃基板上的光阻层在每个像素区域形成至少一个凸起,所述第二玻璃基板上的光阻层在每个像素区域形成至少一个凹陷。

本发明还涉及一种液晶显示装置的制造方法,其中包括步骤:A、在玻璃基板上依次沉积钝化层和光阻层;B、通过光罩图形化所述光阻层使得在所述光阻层上形成至少一个凹陷和/或至少一个凸起;C、在所述光阻层上沉积透明电极层。

本发明的液晶显示装置及其制造方法通过在光阻层上制作凸起和凹陷实现了对液晶显示装置配向分割,解决了现有技术的对液晶显示装置配向分割的制作困难的技术问题。

为让本发明的上述内容能更明显易懂,下文特举优选实施例,并配合所附图式,作详细说明如下:

附图说明

图1为本发明的液晶显示装置的第一优选实施例的结构示意图;

图2为本发明的液晶显示装置的第二优选实施例的结构示意图;

图3为本发明的液晶显示装置的第三优选实施例的结构示意图;

图4为本发明的液晶显示装置的光阻层的凹陷和/或凸起的结构示意图之一;

图5为本发明的液晶显示装置的光阻层的凹陷和/或凸起的结构示意图之二;

图6为本发明的液晶显示装置的光阻层的凹陷和/或凸起的结构示意图之三;

图7为本发明的液晶显示装置的光阻层的凹陷和/或凸起的结构示意图之四;

图8为本发明的液晶显示装置的光阻层的凹陷和/或凸起的结构示意图之五;

图9为本发明的液晶显示装置的光阻层的凹陷和/或凸起的结构示意图之六。

具体实施方式

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于深圳市华星光电技术有限公司,未经深圳市华星光电技术有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201110341164.7/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top