[发明专利]用于静电保护的沟槽型绝缘栅场效应管结构有效

专利信息
申请号: 201110340523.7 申请日: 2011-11-01
公开(公告)号: CN103094272A 公开(公告)日: 2013-05-08
发明(设计)人: 苏庆 申请(专利权)人: 上海华虹NEC电子有限公司
主分类号: H01L27/02 分类号: H01L27/02;H01L29/78
代理公司: 上海浦一知识产权代理有限公司 31211 代理人: 张骥
地址: 201206 上*** 国省代码: 上海;31
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摘要:
搜索关键词: 用于 静电 保护 沟槽 绝缘 场效应 结构
【权利要求书】:

1.一种用于静电保护的沟槽型绝缘栅场效应管结构,包括一N型外延层,N型外延层的顶部形成有多个P型阱,多个P型阱之间被相互隔离;各P型阱内分别有两个N型有源区作为场效应管的源极,P型阱内的两个N型有源区通过一P型有源区隔离;N型外延层的背面有一层P型注入层作为场效应管的漏极引出端;各P型阱之间设有栅极;其特征在于:所述每个P型阱内的两个N型有源区相互短接,并与该P型阱内的P型有源区相连;各栅极均相互短接;其中一个P型阱内的N型有源区与栅极相连,并经过一电阻与接地端相连;其它的P型阱内的N型有源区直接与接地端相连。

2.根据权利要求1所述的用于静电保护的沟槽型绝缘栅场效应管结构,其特征在于:所述多个P型阱之间被沟槽相互隔离;各沟槽内形成有栅氧化层,栅氧化层内填充有多晶硅栅,各沟槽内的栅氧化层及多晶硅栅构成所述栅极。

3.根据权利要求1所述的用于静电保护的沟槽型绝缘栅场效应管结构,其特征在于:所述多个P型阱之间被N型外延层相互隔离;各隔离区的上方有栅氧化层,栅氧化层的上方有多晶硅栅,各隔离区上方的栅氧化层及多晶硅栅构成所述栅极。

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