[发明专利]成膜装置和成膜方法无效
申请号: | 201110339500.4 | 申请日: | 2011-11-01 |
公开(公告)号: | CN102465276A | 公开(公告)日: | 2012-05-23 |
发明(设计)人: | 中川善之;中野真吾;福田直人 | 申请(专利权)人: | 佳能株式会社 |
主分类号: | C23C14/54 | 分类号: | C23C14/54;C23C14/24 |
代理公司: | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 | 代理人: | 钱亚卓 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 装置 方法 | ||
1.一种用于在成膜对象物上形成成膜材料的膜的成膜装置,包括:
成膜源,用于加热所述成膜材料以及用于释放出所述成膜材料的蒸气;
移动部,用于使所述成膜源在预定成膜待机位置与预定成膜位置之间移动;
测量用石英振荡器,用于监测从所述成膜源释放出的所述成膜材料的蒸气的量;以及
校正用石英振荡器,用于校正所述测量用石英振荡器的测量值,
其中,所述移动部保持所述测量用石英振荡器和所述校正用石英振荡器。
2.一种成膜方法,包括:
成膜步骤,加热其内包括成膜材料的成膜源以释放出所述成膜材料的蒸气,且在采用测量用石英振荡器监测释放出的所述成膜材料的蒸气的量的同时在成膜对象物上形成所述成膜材料的膜;
控制步骤,基于所述测量用石英振荡器的监测值调整所述成膜源的加热温度;以及
校正步骤,采用校正用石英振荡器监测释放出的所述成膜材料的蒸气的量,并利用所述校正用石英振荡器的监测值校正所述测量用石英振荡器的监测值,其中:
在所述成膜对象物上形成膜的所述成膜步骤当中执行所述校正步骤。
3.根据权利要求2所述的成膜方法,所述校正步骤包括:
利用所述测量用石英振荡器和所述校正用石英振荡器两者监测释放出的所述成膜材料的蒸气量;
利用所述校正用石英振荡器的监测值确定所述成膜材料的膜厚值A,以及利用所述测量用石英振荡器的监测值确定所述成膜材料的膜厚值B;以及
采用所述膜厚值A相对于所述膜厚值B的比(A/B)计算校正系数。
4.根据权利要求2所述的成膜方法,其特征在于,采用根据权利要求1所述的成膜装置来执行所述成膜方法。
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