[发明专利]成像设备、图像处理设备、图像处理方法和程序有效
申请号: | 201110339449.7 | 申请日: | 2011-10-28 |
公开(公告)号: | CN102457752A | 公开(公告)日: | 2012-05-16 |
发明(设计)人: | 冈田深雪 | 申请(专利权)人: | 索尼公司 |
主分类号: | H04N13/00 | 分类号: | H04N13/00;H04N5/232 |
代理公司: | 北京东方亿思知识产权代理有限责任公司 11258 | 代理人: | 宋鹤 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 成像 设备 图像 处理 方法 程序 | ||
1.一种成像设备,包括:
多个成像单元;
校正单元,其对于由多个所述成像单元拍摄的图像执行校正处理;以及
控制单元,其计算所述校正单元中的校正处理所用的校正参数,
其中,所述校正单元对于所拍摄的图像中的每一者执行扭曲像差校正和手部振动校正,并且执行图像特性匹配校正处理,所述图像特性匹配校正处理用于使由多个所述成像单元拍摄的多个图像之间的特性相匹配。
2.根据权利要求1所述的成像设备,其中,所述校正单元执行变焦比率校正处理来作为所述图像特性匹配校正处理,所述变焦比率校正处理用于使由多个所述成像单元拍摄的多个图像的变焦比率匹配。
3.根据权利要求1所述的成像设备,其中,所述校正单元执行光轴中心校正处理来作为所述图像特性匹配校正处理,所述光轴中心校正处理用于使得由多个所述成像单元拍摄的多个图像的光轴中心匹配。
4.根据权利要求1所述的成像设备,其中,所述校正单元还执行视差校正处理,所述视差校正处理用于调节由多个所述成像单元拍摄的多个图像的视差。
5.根据权利要求1所述的成像设备,其中,所述控制单元计算所述校正单元中的校正处理所用的校正参数,并且将所述校正参数提供给所述校正单元。
6.根据权利要求5所述的成像设备,其中,所述校正参数是校正单元中的图像的坐标变换所用的校正向量。
7.根据权利要求1所述的成像设备,其中,所述校正单元包括:
扭曲像差校正单元,其对于所拍摄的图像中的每一者执行扭曲像差校正;
手部旋转振动校正单元,其对于所拍摄的图像中的每一者执行手部旋转振动校正;
手部平移振动校正单元,其对于所拍摄的图像中的每一者执行手部平移振动校正;
变焦比率校正单元,其对作为由多个所述成像单元拍摄的多个图像的特性的变焦比率进行匹配;
光轴中心校正单元,其对作为由多个所述成像单元拍摄的多个图像的特性的光轴中心进行匹配;以及
视差校正单元,其执行视差校正处理,所述视差校正处理用于调节由多个所述成像单元拍摄的多个图像的视差。
8.根据权利要求1所述的成像设备,其中,所述控制单元通过将所述校正单元执行的多个不同的校正处理所用的校正向量相结合来计算结合校正向量,并且将所述结合校正向量提供给所述校正单元,并且
其中,所述校正单元通过应用了所述结合校正向量的图像变换处理来一同执行多个所述不同的校正处理。
9.根据权利要求1所述的成像设备,其中,所述控制单元计算通过将扭曲像差校正处理、手部旋转振动校正处理、手部平移振动校正处理、变焦比率校正处理、光轴中心校正处理和视差校正处理中的每一者所用的校正向量相结合而获得的结合校正向量,并且将所述结合校正向量提供给校正单元,并且
所述校正单元通过应用了所述结合校正向量的图像变换处理来一同地执行扭曲像差校正处理、手部旋转振动校正处理、手部平移振动校正处理、变焦比率校正处理、光轴中心校正处理和视差校正处理。
10.根据权利要求1的成像设备,其中,所述成像设备具有扭曲像差数据存储单元,该单元存储了扭曲像差校正所用的、与所述成像单元相对应的扭曲像差数据,并且
所述控制单元基于从所述扭曲像差数据存储单元获得的数据来产生扭曲像差校正参数。
11.根据权利要求1的成像设备,其中,所述成像设备具有光轴中心校正值存储单元,该单元存储了光轴中心校正所用的光轴中心校正数据,所述光轴中心校正用于使作为由多个成像单元拍摄的多个图像的特性的光轴中心相匹配,并且
所述控制单元基于从所述光轴中心校正值存储单元获得的数据来产生光轴中心校正参数。
12.根据权利要求1的成像设备,其中,所述成像设备具有变焦比率校正值存储单元,所述变焦比率校正值存储单元存储了变焦比率校正所用的变焦比率校正数据,所述变焦比率校正用于使作为由多个成像单元拍摄的多个图像的特性的变焦比率相匹配,并且
所述控制单元基于从所述变焦比率校正值存储单元获得的数据来产生变焦比率校正参数。
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