[发明专利]Ni-Co-B合金代硬铬镀层的电沉积制备方法

权利要求书

1.Ni-Co-B合金代硬铬镀层的电沉积制备方法，其特征在于Ni-Co-B合金代硬铬镀层的电沉积制备方法按以下步骤进行：一、称取60～240g的镍盐、6～24g的钴盐、15～40g的氯化镍、20～50g的硼酸、1～10g的胺硼化合物、1～10ml的NI3^#快速高整平镀镍光泽剂A剂和0.01～0.1g的十二烷基硫酸钠；二、在50～70℃的条件下将称取的硼酸溶于200～600ml的水中，然后依次加入镍盐、钴盐、氯化镍和胺硼化合物并搅拌至溶解，再加入十二烷基硫酸钠和N13^#快速高整平镀镍光泽剂A剂，然后用NaOH溶液或稀H₂SO₄溶液调节溶液的pH值至2.0～5.5，再加水定容至1L，获得Ni-Co-B合金镀液；三、镀件经常规碱性除油或电化学除油后水洗，然后置于体积浓度为10～20％的盐酸中活化，再水洗，之后在电流密度为3～10A/dm²、温度为30～70℃、pH值为2.0～5.5、搅拌方式为阴极移动的条件下电镀20～40min，水洗后吹干，即完成Ni-Co-B合金代硬铬镀层的电沉积制备；

其中步骤一中镍盐为硫酸镍或氨基磺酸镍；步骤一中钴盐为硫酸钴、氯化钴或氨基磺酸钴；步骤一中胺硼化合物为二甲胺硼烷、二乙胺硼烷、三甲胺硼烷、异丙胺硼烷、吡啶硼烷或碳硼烷；步骤二中NaOH溶液的质量浓度为10％，稀H₂SO₄溶液的体积浓度为20％。

2.根据权利要求1所述的Ni-Co-B合金代硬铬镀层的电沉积制备方法，其特征在于步骤一中称取200g的镍盐、18g的钴盐、20g的氯化镍、30g的硼酸、5g的胺硼化合物、5ml的NI3^#快速高整平镀镍光泽剂A剂和0.05g的十二烷基硫酸钠。

3.根据权利要求1所述的Ni-Co-B合金代硬铬镀层的电沉积制备方法，其特征在于步骤二中在60℃的条件下将称取的硼酸溶于600ml的水中。

4.根据权利要求1所述的Ni-Co-B合金代硬铬镀层的电沉积制备方法，其特征在于步骤三中在电流密度为6A/dm²、温度为50℃、pH值为3.5、搅拌方式为阴极移动的条件下电镀30min。

5.Ni-Co-B合金代硬铬镀层的电沉积制备方法，其特征在于Ni-Co-B合金代硬铬镀层的电沉积制备方法按以下步骤进行：一、称取60～240g的氯化镍、6～24g的钴盐、20～50g的硼酸、1～10g的胺硼化合物、1～10ml的NI3^#快速高整平镀镍光泽剂A剂和0.01～0.1g的十二烷基硫酸钠；二、在50～70℃的条件下将称取的硼酸溶于200～600ml的水中，然后依次加入氯化镍、钴盐和胺硼化合物并搅拌至溶解，再加入十二烷基硫酸钠和N13^#快速高整平镀镍光泽剂A剂，然后用NaOH溶液或稀H₂SO₄溶液调节溶液的pH值至2.0～5.5，再加水定容至1L，获得Ni-Co-B合金镀液；三、镀件经常规碱性除油或电化学除油法除油后水洗，然后置于体积浓度为10～20％的盐酸中活化，再水洗，之后在电流密度为3～10A/dm²、温度为30～70℃、pH值为2.0～5.5、搅拌方式为阴极移动的条件下电镀20～40min，水洗后吹干，即完成Ni-Co-B合金代硬铬镀层的电沉积制备；

其中步骤一中钴盐为硫酸钴、氯化钴或氨基磺酸钴；步骤一中胺硼化合物为二甲胺硼烷、二乙胺硼烷、三甲胺硼烷、异丙胺硼烷、吡啶硼烷或碳硼烷；步骤二中NaOH溶液的质量浓度为10％，稀H₂SO₄溶液的体积浓度为20％。

6.根据权利要求5所述的Ni-Co-B合金代硬铬镀层的电沉积制备方法，其特征在于步骤一中称取180g的氯化镍、16g的钴盐、40g的硼酸、4g的胺硼化合物、6ml的NI3^#快速高整平镀镍光泽剂A剂和0.08g的十二烷基硫酸钠。

7.根据权利要求5所述的Ni-Co-B合金代硬铬镀层的电沉积制备方法，其特征在于步骤二中在55℃的条件下将称取的硼酸溶于500ml的水中。

8.根据权利要求5所述的Ni-Co-B合金代硬铬镀层的电沉积制备方法，其特征在于步骤三中在电流密度为5A/dm²、温度为60℃、pH值为4.0、搅拌方式为阴极移动的条件下电镀35min。