[发明专利]一种用于EUV光刻系统的复眼反射镜制作方法无效
| 申请号： | 201110337987.2 | 申请日： | 2011-10-31 |
| 公开（公告）号： | CN102385082A | 公开（公告）日： | 2012-03-21 |
| 发明（设计）人： | 金春水;王辉;郑琪峰;周烽;王丽萍 | 申请（专利权）人： | 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所 |
| 主分类号： | G02B5/09 | 分类号： | G02B5/09;G03F7/20 |
| 代理公司： | 长春菁华专利商标代理事务所 22210 | 代理人： | 陶尊新 |
| 地址： | 130033 吉*** | 国省代码： | 吉林;22 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 用于 euv 光刻 系统 复眼 反射 制作方法 | ||
【权利要求书】：
1.一种用于EUV光刻系统的复眼反射镜制作方法，其特征是，该方法由以下步骤实现：
步骤一、选择直径为一寸的硅块表面电镀厚度为100μm的镍层(5)，然后在所述硅块的另一表面上进行精抛加工，获得加工后的硅块；
步骤二、采用精密线切割技术，从步骤一所述的加工后的硅块上切割单块反射镜(1)，将所述单块反射镜(1)固定在设置磁铁层(6)的底板(4)上；所述单块反射镜(1)的尺寸比实际单块反射镜的尺寸小50～100μm；
步骤三、采用光学定位系统观测，调整单块反射镜(1)的位置，实现单块反射镜(1)的定位；
步骤四、重复步骤二和步骤三，完成多块反射镜的定位，所述多块反射镜之间存在间隙，最终实现复眼反射镜的制作。
2.根据权利要求1所述的一种用于EUV光刻系统的复眼反射镜制作方法，其特征在于，步骤四所述多块反射镜之间存在间隙是：每两块反射镜之间的间隙范围为0.1mm～0.2mm。
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