[发明专利]镀膜修正板及镀膜装置

说明书

技术领域

本发明涉及一种镀膜修正板及镀膜装置。

背景技术

现有的蒸镀设备一般包括一个蒸镀源及一个设置于蒸镀源上方用来承载被镀件的伞状的承载架。蒸镀时，由于蒸镀源正上方的蒸发物浓度较高，导致蒸镀源正对的承载架的中间层圈的待镀基材上的膜层较厚，而位于上层圈(靠近承载架中心)的被镀件与位于下层圈(靠近承载架边缘)的被镀件上的膜层较薄。因此，蒸镀设备通常还包括一个设置于承载架与蒸镀源之间的镀膜修正板，用于遮挡蒸镀源正上方的蒸发物，以减少蒸镀源正对的被镀件上的膜层的厚度，从而修正承载架上位于不同层圈的被镀件上的膜层厚度的差异。由于各种被镀件采用的蒸镀源的蒸发速率、蒸镀的沉积速率及被镀件的形状不同，各种被镀件对镀膜修正板的形状的要求也不同。通常一种被镀件采用对应的一种具有固定形状的镀膜修正板，这种镀膜修正板不能适用多种被镀件，通用性差。

发明内容

有鉴于此，有必要提供一种通用性佳的镀膜修正板及使用该镀膜修正板的镀膜装置。

一种镀膜修正板，其包括一个遮挡面、两个相对转动设置的遮挡片及一个活动设置在所述两个遮挡片之间的调整元件。所述两个遮挡片共同配合决定所述遮挡面的外轮廓。所述调整元件用于驱动所述两个遮挡片相对转动以改变所述遮挡面的外轮廓。

一种镀膜装置，包括一个中空的镀膜室、一个安装于所述镀膜室的承载架、一个安装于所述镀膜室且与所述承载架相对设置的蒸镀源及至少一个设置于所述承载架与所述蒸镀源之间的镀膜修正板。每个所述镀膜修正板包括 一个遮挡面、两个相对转动设置的遮挡片及一个活动设置在所述两个遮挡片之间的调整元件。所述两个遮挡片共同配合决定所述遮挡面的外轮廓。所述调整元件用于驱动所述两个遮挡片相对转动以改变所述遮挡面的外轮廓。

本发明的镀膜修正板，可通过驱动所述两个遮挡片相对转动改变所述遮挡面的的外轮廓，使之适用于多种被镀件，提高通用性。

附图说明

图1是本发明第一实施方式的镀膜装置的剖视示意图。

图2是图1的镀膜装置的镀膜修正板的立体分解图。

图3是图2的镀膜修正板的立体组合图。

图4是图3的镀膜修正板的处于第一使用状态的俯视图。

图5是图4的镀膜修正板的处于第二使用状态的俯视图。

图6是本发明第二实施方式的镀膜装置的镀膜修正板的立体组合图。

图7是图6的镀膜修正板的使用状态图。

主要元件符号说明