[发明专利]一种空气隙标准具及其制作方法

权利要求书

1.一种空气隙标准具，包括第一光学基片、间隔块和第二光学基片；间隔块设置于第一光学基片和第二光学基片中间，三者光胶为一体，其特征在于：所述间隔块厚度h由公式确定，其中j为干涉级次，λ_j为透过峰波长，n为空气隙的折射率，θ′为光入射到标准具空气隙内的折射角；间隔块中间设有一通孔，所述第一光学基片的第二表面与所述通孔对应的区域镀有第一部分反射膜，其大小小于通孔尺寸；所述第二光学基片的第一表面与所述通孔对应的区域镀有第二部分反射膜，其大小小于通孔尺寸。

2.如权利要求1所述的一种空气隙标准具，其特征在于：所述第一光学基片的第二表面还镀有第一光胶膜，第一部分反射膜镀于第一光胶膜之上；所述第二光学基片的第一表面也镀有与第一光胶膜一样的第二光胶膜，第二部分反射膜镀于第二光胶膜之上。

3.如权利要求1或2所述的一种空气隙标准具，其特征在于：所述第一光学基片的第一表面和第二光学基片的第二表面均镀有增透膜，该两表面均为一楔形小斜面，其楔角范围为15′～30′。

4.一种空气隙标准具的制作方法，其特征在于，包括如下步骤：a.在间隔块中间打一通孔，在第一光学基片的第二表面和第二光学基片的第一表面上镀部分反射膜；b.将间隔块与第一光学基片和第二光学基片光胶为一体，间隔块位于中间；c.对上述初步光胶后的标准具进行腔长厚度测试，并由公式确定间隔块所需去除或者增加的厚度，其中h为所需间隔块厚度，j为干涉级次，λ_j为透过峰波长，n为空气隙的折射率，θ′为光入射到标准具空气隙内的折射角；d.对第一光学基片、间隔块和第二光学基片进行开胶处理，分离出间隔块，并根据步骤c确定的间隔块厚度对其进行厚度精加工；e.将精加工的间隔块与第一光学基片、第二光学基片通过深化光胶重新胶合为一体，间隔块位于中间。

5.如权利要求4所述的一种空气隙标准具的制作方法，其特征在于：步骤d所述精加工方法为采用等离子刻蚀、化学腐蚀或者MRF抛光去除间隔块多余厚度，或者采用镀膜方式增加间隔块厚度。

6.如权利要求4所述的一种空气隙标准具的制作方法，其特征在于：所述步骤a中在第一光学基片的第二表面和第二光学基片的第一表面镀部分反射膜之前，先镀上一层光胶膜，所述部分反射膜镀于光胶膜之上。

7.如权利要求4-6任一项所述的一种空气隙标准具的制作方法，其特征在于：所述第一光学基片和第二光学基片采用相同的材料；所述材料为光学玻璃或者陶瓷材料。

8.如权利要求7所述的一种空气隙标准具的制作方法，其特征在于：所述光学玻璃为融石英或者Zerodur。

9.如权利要求4-6任一项所述的一种空气隙标准具的制作方法，其特征在于：所述间隔块材料为光学玻璃或者陶瓷材料。

10.如权利要求9所述的一种空气隙标准具的制作方法，其特征在于：所述光学玻璃为ULE或者Zerodur。