[发明专利]防水膜的形成方法、防水膜、喷墨头的喷嘴板

说明书

技术领域

本发明涉及形成防水膜的方法，尤其是涉及形成能够适当地设置在喷墨头的喷嘴板上的防水膜的方法。

背景技术

在用于喷墨记录装置的喷墨头中，当油墨附着于喷嘴板表面时，从喷嘴喷射出的墨滴受到影响并且墨滴的喷射方向可能发生变化。当油墨以这种方式附着时，难以使墨滴沉积在记录介质上的预定位置处，这引起图像质量的劣化。

因此，为了通过防止油墨附着于喷嘴板表面以改善喷射性能以及改善维护特性，已经提出了各种用于在喷嘴板表面上形成防水膜的方法。

一种在喷嘴板表面上提供防水处理的方法是使用氟树脂或含氟单分子膜的方法。然而，如果使用单分子膜，则难以形成完全覆盖喷嘴表面的膜，这是由于制造喷墨头期间粒子变得与表面附着而导致的影响。另外，含氟单分子膜具有高电负性，因此难以高密度地排列相邻的分子。换句话说，单分子膜仅能以低密度形成并且难以实现充分的防水性能。

另外，喷墨头中的防水膜可由于维护(例如用橡胶刀片擦拭等)而剥落，这可能导致墨滴喷射方向的变化。因此，需要更牢固的防水膜。

除了喷墨记录装置之外，在触摸面板领域，(例如)使用与喷墨头的膜基本上相同的膜作为防止因指印等引起的污损的膜。然而，在该领域中，对于总是在相同位置被触摸的目标设备(如自动售票机)，存在防污膜剥落并且防污特性下降的可能性。

应对于这类问题，日本专利申请公开No.2005-246707和日本专利申请公开No.2010-30142描述了这样一种技术，其涉及涂布等离子聚合物硅氧烷膜(其是通过对诸如八甲基三硅氧烷等分子进行热蒸发，并且引入到等离子体中而进行聚合)，所述膜被UV或等离子体能量等活化以产生OH基，并且向该膜施加硅烷偶联型氟材料以产生牢固的硅烷偶联键。

然而，日本专利申请公开No.2005-246707和日本专利申请公开No.2010-30142中所述的具有热蒸发器的等离子聚合装置确实非常昂贵，因此可能存在下述情况：在制造喷墨头上的防水膜等时所涉及的成本变得太高。

发明内容

鉴于这些情况而提出本发明，其目的是提供一种形成防水膜的方法，由该方法能够廉价地制造防水膜，而不需要包括昂贵热蒸发器的等离子聚合装置。

为了实现上述目的，本发明的一个方面涉及形成防水膜的方法，该方法包括：薄膜形成步骤，其中使用在常温和大气压下为气体的原材料在基础部件上形成薄膜，该薄膜主要具有Si-O键并且具有直接与硅结合的疏水性取代基；照射步骤，其中用激发光照射在所述薄膜形成步骤中获得的薄膜，从而使得所述疏水性取代基保留并且所述薄膜中存在OH基；以及施加步骤，其中将硅烷偶联剂施加到所述照射步骤中获得的薄膜上。如果使用在常温和大气压下为气体的原材料，有利的是，通过催化性CVD(cat-CVD)或通过等离子体CVD进行薄膜形成步骤。

另外，为了实现上述目的，本发明的另一个方面涉及形成防水膜的方法，该方法包括：薄膜形成步骤，其中通过将薄膜施加到基础部件上随后进行煅烧而在基础部件上形成薄膜，所述薄膜主要具有Si-O键并且具有直接与硅结合的疏水性取代基；照射步骤，其中用激发光照射在所述薄膜形成步骤中获得的所述薄膜，从而使得所述疏水性取代基保留并且薄膜中存在OH基；以及施加步骤，其中将硅烷偶联剂施加到所述照射步骤中获得的所述薄膜上。

通过上述的形成防水膜的方法，可以提供这样的形成防水膜的方法，由该方法能够廉价地制造防水膜，而不需要包括昂贵热蒸发器的等离子聚合装置。

由于借助热蒸发器进行热蒸发的速度不稳定，因此不需要热蒸发的本发明的多个方面在膜形成的重复性方面也是有利的。

另外，在这种防水膜中，OH基与硅烷偶联性防水材料产生牢固的键，这归因于保留有疏水性取代基的下面的硅氧烷膜，并且由于这些疏水性取代基赋予了耐油墨特性，因此与常规SiO₂材料相比也可以赋予耐油墨性。

有利地，疏水性取代基是甲基。该基团可以是具有苯环的疏水基团，如烷基或苯基，但是如果该基团是CH₃，则可以容易且廉价地实施薄膜形成步骤。

另外，有利地，用于形成上述薄膜的基础部件的物质(材料)是硅、玻璃、金属、陶瓷和聚合物膜中的任一者。可以基于硅、玻璃、金属、陶瓷和聚合物膜中的任一者来形成牢固并具有良好重复性的廉价防水膜。

另外，激发光可以紫外光或等离子体。当紫外光或等离子体作为激发光照射含有Si-O键的薄膜时，产生Si-OH基。