[发明专利]一种水稳等离子喷涂技术制备Y2O3涂层的方法无效

专利信息
申请号: 201110328514.6 申请日: 2011-10-26
公开(公告)号: CN103074567A 公开(公告)日: 2013-05-01
发明(设计)人: 王文东;刘邦武;夏洋;李勇滔 申请(专利权)人: 中国科学院微电子研究所
主分类号: C23C4/12 分类号: C23C4/12;C23C4/10
代理公司: 北京市德权律师事务所 11302 代理人: 刘丽君
地址: 100029 *** 国省代码: 北京;11
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摘要:
搜索关键词: 一种 等离子 喷涂 技术 制备 sub 涂层 方法
【权利要求书】:

1.一种水稳等离子喷涂技术制备Y2O3涂层的方法,其特征在于,包括如下步骤:

步骤(1),选择纯度大于99.95%的Y2O3粉末;

步骤(2),对被喷涂的基材表面进行预处理;

步骤(3),通过水稳等离子喷涂设备在所述基材表面进行等离子喷涂,制备出Y2O3涂层。

2.如权利要求1所述的水稳等离子喷涂技术制备Y2O3涂层的方法,其特征在于,所述步骤(1)中的Y2O3粉末的粒度为5~100μm。

3.如权利要求1所述的水稳等离子喷涂技术制备Y2O3涂层的方法,其特征在于,所述步骤(2)中对被喷涂的基材表面进行预处理,具体包括如下步骤:对被喷涂的基材表面进行喷砂处理,并用丙酮清洗。

4.如权利要求3所述的水稳等离子喷涂技术制备Y2O3涂层的方法,其特征在于,所述喷砂处理采用的喷砂材料为白刚玉,喷砂粒度为50~100μm。

5.如权利要求1所述的水稳等离子喷涂技术制备Y2O3涂层的方法,其特征在于,所述步骤(3)中水稳等离子喷涂设备的电弧电压为200~400V,电弧电流为200~600A,石墨阴极消耗速度1-6mm/min,送粉速度15~100g/min,喷涂距离80~500mm,所述水稳等离子喷涂设备的喷枪使用去离子水用量为2~20L/h。

6.如权利要求1所述的水稳等离子喷涂技术制备Y2O3涂层的方法,其特征在于,所述步骤(3)中水稳等离子喷涂设备在喷涂过程中,采用空气喷吹方法或者循环水冷方法来冷却基体,所述空气喷吹方法中冷却气体的流量为100~2000L/min,所述循环水冷方法中冷却水的流量为10~500L/min。

7.如权利要求1所述的水稳等离子喷涂技术制备Y2O3涂层的方法,其特征在于,所述步骤(3)中水稳等离子喷涂设备的阳极旋转速度为1000-4000转/min,其冷却水压为0.4-2MPa。

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