[发明专利]一种氧化锆陶瓷种植体的表面处理方法无效
申请号: | 201110326532.0 | 申请日: | 2011-10-25 |
公开(公告)号: | CN102499899A | 公开(公告)日: | 2012-06-20 |
发明(设计)人: | 王鸿娟;严庆云;孟宪梓 | 申请(专利权)人: | 辽宁爱尔创生物材料有限公司 |
主分类号: | A61K6/027 | 分类号: | A61K6/027;C04B41/87 |
代理公司: | 辽宁沈阳国兴专利代理有限公司 21100 | 代理人: | 姜婷婷 |
地址: | 117000 辽宁省本*** | 国省代码: | 辽宁;21 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 氧化锆 陶瓷 种植 表面 处理 方法 | ||
1.一种氧化锆陶瓷种植体的表面处理方法,其特征在于包括下述步骤:将球磨后的氧化锆粉体配制成稳定的悬浮液,利用溶液浸泡法将悬浮液涂覆在氧化锆陶瓷种植体表面,在1400℃温度下,烧结2小时,利用球磨时间控制所需粒径大小,即可在氧化锆陶瓷种植体表面形成一层具有生物活性的多孔结构。
2.根据权利要求1所述的一种氧化锆陶瓷种植体的表面处理方法,其特征在于所述的多孔结构为多孔孔径在0.5 -3微米之间的多孔层。
3.根据权利要求1所述的一种氧化锆陶瓷种植体的表面处理方法,其特征在于所述的悬浮液的溶剂为去离子水、无水乙醇或二者不同比例的混合。
4.根据权利要求1所述的一种氧化锆陶瓷种植体的表面处理方法,其特征在于所述的表面处理方法是利用溶液溶液浸泡法,涂覆悬浮液的步骤中,浸泡时间5-10S。
5.根据权利要求1所述的一种氧化锆陶瓷种植体的表面处理方法,其特征在于所述的悬浮液的质量百分比浓度为0.001-0.01%。
6.根据权利要求1所述的一种氧化锆陶瓷种植体的表面处理方法,其特征在于包括下述步骤:将氧化锆粉体球磨20h,球磨后的氧化锆粒径分布范围在0.5-1μm,选用去离子水作为悬浮液溶剂,配制成质量百分比浓度为0.075%的悬浮液,将直径2mm的氧化锆陶瓷种植体侵入到氧化锆悬浮液中5-10s,将涂覆后的氧化锆陶瓷种植体在1400℃下烧结2小时,使氧化锆种植体表面形成多孔孔径在0.5 -3微米之间的多孔层。
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