[发明专利]一种增透薄膜及其制备方法

权利要求书

1.一种增透膜，其特征在于，该增透膜依次包括第一二氧化硅层、第二线性二氧化硅层和第三二氧化硅层；所述第一二氧化硅层的二氧化硅颗粒的平均粒径为50-150nm，所述第三二氧化硅层的二氧化硅颗粒的平均粒径为10-70nm；所述第一二氧化硅层的二氧化硅颗粒的平均粒径与第三二氧化硅层的二氧化硅颗粒的平均粒径比为1-5：1。

2.根据权利要求1所述的增透膜，其特征在于，所述第一二氧化硅层的二氧化硅颗粒的平均粒径与第三二氧化硅层的二氧化硅颗粒的平均粒径比为1.5-3：1。

3.根据权利要求1所述的增透膜，其特征在于，所述增透膜还包括第四线性二氧化硅层。

4.根据权利要求3所述的增透膜，其特征在于，所述第一二氧化硅层的厚度为50-150nm，所述第二线性二氧化硅层的厚度为1-10nm，所述第三二氧化硅层的厚度为10-70nm，所述第四线性二氧化硅层的厚度为1-10nm。

5.根据权利要求1所述的增透膜，其特征在于，所述增透膜的厚度为80-180nm。

6.根据权利要求1所述的增透膜，其特征在于，所述第一二氧化硅层与第三二氧化硅层的二氧化硅的摩尔含量比为0.5-3：1。

7.一种增透膜的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：

S1、制备第一二氧化硅层，用碱催化法制备SiO₂颗粒溶胶，并采用溶胶凝胶法在洁净的玻璃表面上制备第一二氧化硅层；所述SiO₂颗粒溶胶中SiO2的浓度为10-30g/L，二氧化硅颗粒的平均粒径为50-150nm；

S2、制备第二线性二氧化硅层

S21将第一二氧化硅层进行漂洗后置于浓度为1-10mg/mL的聚二烯丙基二甲基氯化铵水溶液中，然后在pH为2-6的酸性SiO₂溶胶中浸渍后取出；

S22 重复步骤S21n次，构成第二PDDA/线形SiO₂双层，其中n为1-30，酸性SiO₂溶胶中SiO₂的浓度为1-100mg/mL；

S3、制备第三二氧化硅层，将覆盖了第二（PDDA/线形SiO₂）_n双层的复合薄膜经去离子水清洗后， 置于浓度为1-10mg/mL的聚二烯丙基二甲基氯化铵水溶液后于另一种SiO₂颗粒溶胶中浸渍后取出，即形成第三SiO₂颗粒层；SiO₂颗粒溶胶中SiO2的浓度为1-100mg/mL，二氧化硅颗粒的平均粒径为10-70nm；

S4、热处理形成增透膜；

其中，步骤S1和S3中的两种二氧化硅的平均粒径比为：步骤S1中的二氧化硅颗粒的平均粒径与步骤S3中的二氧化硅颗粒的平均粒径比为1-5：1。

8.根据权利要求7所述的制备方法，其特征在于，在步骤S3和S4之间还包括步骤S3-4，所述步骤S3-4为将覆盖了第三SiO₂颗粒层的复合薄膜先后于PDDA水溶液中和酸性SiO₂溶胶中浸渍适当时间后取出，重复上述步骤m次，即构成第四（PDDA/线形SiO₂）m双层，其中m为1-30。

9.根据权利要求7所述的制备方法，其特征在于，所述步骤S2中交替浸入PDDA水溶液和线形SiO₂溶胶前用去离子水进行漂洗。

10.根据权利要求7所述的制备方法，其特征在于，所述在步骤S1中加入表面活性剂；以步骤S1的反应物的总重量为基准，所述表面活性剂的含量为1-15wt%。