[发明专利]在玻璃基板表面形成压应力层图案的方法及依该方法制成玻璃基板无效

专利信息
申请号: 201110321275.1 申请日: 2011-10-20
公开(公告)号: CN103058506A 公开(公告)日: 2013-04-24
发明(设计)人: 梁乃悦 申请(专利权)人: 雅士晶业股份有限公司
主分类号: C03B27/03 分类号: C03B27/03;C03C21/00
代理公司: 上海宏威知识产权代理有限公司 31250 代理人: 金利琴
地址: 中国台湾忠*** 国省代码: 中国台湾;71
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摘要:
搜索关键词: 玻璃 表面 形成 应力 图案 方法 制成
【权利要求书】:

1.一种在玻璃基板表面形成压应力层图案的方法,其特征在于:包括以下步骤:

a.提供一玻璃基板;

b.在玻璃基板表面形成预定图案的屏蔽,该预定图案具有多个镂空区域及遮蔽区域;

c.对玻璃基板进行化学离子强化制程,将前述设有屏蔽的玻璃基板浸渍在充满熔态强化液的盐浴池中来进行离子交换处理,使玻璃基板表面层的离子被具有同价或氧化状态的大型离子取代或交换,在该玻璃基板的未受屏蔽遮蔽区域的表面形成压应力层;以及

d.去除玻璃基板表面的屏蔽,以获得一表面具有所欲的压应力层图案的玻璃基板。

2.根据权利要求1所述的在玻璃基板表面形成压应力层图案的方法,其特征在于:其中,该玻璃基板的材料是选自于钠钙硅酸盐玻璃、铝硅酸盐玻璃其中之一。

3.根据权利要求1所述的在玻璃基板表面形成压应力层图案的方法,其特征在于:其中,该玻璃基板的上、下表面至少之一为平坦面,而该平坦面的另一对应表面可为平坦面或非平坦面。

4.根据权利要求3所述的在玻璃基板表面形成压应力层图案的方法,其特征在于:其中,该玻璃基板的板体厚度小于5mm。

5.根据权利要求1所述的在玻璃基板表面形成压应力层图案的方法,其特征在于:其中,该玻璃基板在上、下表面分别具一均匀压应力层,令该均匀压应力层的压应力层深度范围约在20μm以下。

6.根据权利要求1所述的在玻璃基板表面形成压应力层图案的方法,其特征在于:其中,该屏蔽是使用具备耐酸蚀性以及可耐高温380℃以上的合成橡胶材料。

7.根据权利要求6所述的在玻璃基板表面形成压应力层图案的方法,其特征在于:其中,该合成橡胶材料为硅胶。

8.根据权利要求7所述的在玻璃基板表面形成压应力层图案的方法,其特征在于:其中,该硅胶以模板印刷手段设置到该玻璃基板表面以形成屏蔽。

9.根据权利要求1所述的在玻璃基板表面形成压应力层图案的方法,其特征在于:其中,该强化液选自于硝酸盐、硫酸盐或大型碱金属离子的氯化物溶液其中之一或其混合物。

10.根据权利要求9所述的在玻璃基板表面形成压应力层图案的方法,其特征在于:其中,该强化液为硝酸钾溶液。

11.一种表面具压应力层图案的玻璃基板,其特征在于:于玻璃基板的至少一表面具有压应力层图案,而该图案可在该表面界定出多个具备不同压应力的局部区域,其包含若干高压应力区域与低压应力区域,由低压应力区域而将该等高压应力区域彼此之间分隔设置,并令高压应力区域与低压应力区域之间的压应力差异值在100MPa以上。

12.根据权利要求11所述的表面具压应力层图案的玻璃基板,其特征在于:其中,该低压应力区域的压应力值在400MPa以下。

13.根据权利要求11所述的表面具压应力层图案的玻璃基板,其特征在于:其中,该高压应力区域的压应力值范围约在100MPa到800MPa。

14.一种表面具压应力层图案的玻璃基板,其特征在于:于玻璃基板的至少一表面具有压应力层图案,而该图案可在该表面界定出多个具备不同压应力的局部区域,其包含若干高压应力区域与低压应力区域,由低压应力区域而将该等高压应力区域彼此之间分隔设置,令高压应力区域与低压应力区域分别具有不同的压应力层深度,且高压应力区域与低压应力区域之间的压应力层深度差异值在5μm以上。

15.根据权利要求14表面具压应力层图案的玻璃基板,其特征在于:其中,该低压应力区域的压应力层深度范围约0到20μm以下。

16.根据权利要求14表面具压应力层图案的玻璃基板,其特征在于:其中,该高压应力区域的压应力层深度范围约5μm到90μm。

17.根据权利要求11或14表面具压应力层图案的玻璃基板,其特征在于:其中,前述玻璃基板的上、下表面至少之一为平坦面,而该平坦面的另一对应表面可为平坦面或非平坦面。

18.根据权利要求17表面具压应力层图案的玻璃基板,其特征在于:其中,该玻璃基板的上、下表面均为平坦面,且其板体厚度小于5mm。

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