[发明专利]具有稳定压力背压室的涡卷流体位移装置

权利要求书

1.一种具有稳定压力背压室的涡卷流体位移装置，包括，一固定涡卷和一绕动涡卷置于一主壳体内部；所述绕动涡卷的上端板的涡卷元件与所述固定涡卷下端板的涡卷元件共轭接触，所述绕动涡卷和所述固定涡卷的所述涡卷元件呈螺旋状或渐开线型；相邻的所述绕动涡卷的涡卷元件与所述固定涡卷的涡卷元件之间接触和分离的部分，以及所述上端板和所述下端板，共同形成至少一密封气室；一主轴的上端部通过轴承连接绕动涡卷的下端板的中部，以带动所述绕动涡卷运动，主壳体开设有进气口，以将外部气体输送至所述密封气室；所述固定涡卷具有排气室，以将运动至所述固定涡卷中心的所述密封气室内的压缩气体排出；所述绕动涡卷的下端板与一绕动推力板接触，并形成至少一背压气室，所述绕动推力板通过轴承连接所述主轴；所述绕动涡卷内设有至少一气道，所述气道能够在所述绕动涡卷与所述固定涡卷做相对运动过程中，连通所述背压气室和所述密封气室，其特征在于，所述绕动涡卷内还设有一单向阀，该单向阀所处的通道与所述气道贯通，所述单向阀的阀头指向所述气道，所述单向阀能够随与所述气道相连通的所述密封气室的压力的升高而打开。

2.根据权利要求1所述的装置，其特征在于，所述阀头后部具有弹性元件，使得所述气道在不同的压强下，所述阀头能够将所述气道能够导通或封闭。

3.根据权利要求1所述的装置，其特征在于，所述绕动涡卷上端板与所述主壳体相接触部分上设置有一圈唇封槽。

4.根据权利要求3所述的装置，其特征在于，所述绕动涡卷的上端板，位于所述唇封槽与所述绕动涡卷的涡卷元件之间的部分为网格状。

5.根据权利要求1所述的装置，其特征在于，所述绕动涡卷的涡卷元件和/或所述固定涡卷的涡卷元件的上端面设置为网格状。

6.根据权利要求4或5所述的装置，其特征在于，所述网格的每个格的深度为0.05毫米到5毫米之间。

7.根据权利要求4或5所述的装置，其特征在于，所述网格的结构的线性尺寸不大于所述绕动涡卷的绕动半径。

8.根据权利要求1所述的装置，其特征在于，所述绕动涡卷的下端板与所述绕动推力板之间设置有至少一密封元件，所述至少一密封元件用于密封所述背压室。