[发明专利]OLED用含钼和/或铝金属膜的蚀刻液及其制备方法

说明书

技术领域

本发明涉及一种有机电致发光装置用于信号配线的层叠配线的形成方法，特别是涉及一种OLED用含钼和/或铝金属膜的蚀刻液及其制备方法。

背景技术

在平板显示领域中，OLED因其超轻薄、全固化、自发光、视角广、响应速度快、温度适应性广、可实现柔软显示等诸多突出的性能，因此其应用前景比普通的液晶显示器(Liquid Crystal Display，LCD)更丰富。目前OLED已经成功的应用于商业、通讯、计算机、消费类电子产品、工业、交通等多领域，被看做极具竞争力的未来显示技术之一。

OLED的结构通常由阴极、电子传输层、有机发光层、空穴传输层、阳极构成。阳极常用透明导电金属氧化物构成，比如说氧化铟锡(Indium-Tin Oxide，ITO)透明导电膜。由于ITO的方块电阻较大，当主电极引线过长或是过细时，其上就会产生较大的电压降，使显示区的发光强度减弱。为了尽可能地减小电阻，会在作为主电极引线的全部或部分ITO上覆盖辅助电极引线，通常考虑到防腐蚀防氧化采用钼/铝金属引线。

随着近年，在OLED组件制造工序中，伴随着高精细化、高集成化而引起的图形的超微细化倾向，对金属膜做引线的蚀刻的控制性和精度有了更高要求。另外，对金属层叠膜的蚀刻中，为了防止上层配线的断线，获得可靠性高的配线，需要将金属层叠膜的截面形状的锥角控制在20°-70°。

现有的钼金属膜和铝金属膜蚀刻液多采用硝酸、磷酸、醋酸和水的混合物，如日本专利特开平7-176500号公报，该混合物蚀刻液在蚀刻层叠膜时，很难将钼金属膜的锥角控制在20°-70°。

此外，有采用磷酸、硝酸、和醋酸或烷基磺酸的蚀刻液混合物，如日本专利特开2005-85811号公报对钼类和铝类金属膜层叠膜蚀刻，但其容易产生残渣，影响蚀刻精度。

发明内容

本发明的目的是提供一种OLED用含钼和/或铝金属膜的蚀刻液及其制备方法。

本发明提供的OLED用含钼和/或铝金属膜的蚀刻液，包括硝酸水溶液、磷酸水溶液、甜菜碱两性表面活性剂和水。

所述蚀刻液也可只由上述组分组成。

其中，所述硝酸水溶液的质量百分浓度为63-67％，优选65％；所述硝酸水溶液占所述蚀刻液总重的1-10％，优选2-8％，具体可为1-2％、1-5％、1-8％、2-5％、5-8％、5-10％或8-10％。硝酸的作用是对钼类金属膜的蚀刻，当其质量百分比低于1％时，对钼类金属膜蚀刻速度太慢、高于10％时，蚀刻速度太快，难以控制精度，且对光致抗蚀剂层损害加大。

所述磷酸水溶液的质量百分浓度为50-54％，优选52％。所述磷酸水溶液占所述蚀刻液总重的40-80％，具体可为40-50％、40-60％、40-70％、50-80％、50-70％、50-60％、60-80％、60-70％或70-80％，优选50-70％。磷酸的作用是对铝类金属膜的蚀刻，当其质量百分比低于40％时，对铝类金属膜蚀刻速度太慢、高于80％时，蚀刻速度提高，但金属层叠膜的锥角容易变成70°以上。

所述甜菜碱两性表面活性剂选自月桂酰胺丙基羟磺基甜菜碱、月桂酰胺丙基甜菜碱和椰油酰胺丙基羟磺基甜菜碱中的至少一种。所述甜菜碱两性表面活性剂占所述蚀刻液总重的0.1-5％，具体可为0.1-0.5％或0.5-1％，优选0.5-2％，更优选0.5-1％。上述甜菜碱两性表面活性剂均能从公开商业途径而得。甜菜碱类两性表面活性剂的作用是改善蚀刻液组合物和金属膜表面的表面张力，增加金属膜表面的润湿性，有效控制金属膜的锥角在20°-70°，并提高蚀刻速度的稳定性，增加蚀刻的控制性，当其质量百分比低于0.1％时，作用效果不明显、高于10％时，蚀刻过程中会出现残渣，影响蚀刻质量和精度。

余量为所述水。所述水为去离子水，所述水在25℃的电阻率至少为18兆欧。

本发明提供的制备上述蚀刻液的方法，包括如下步骤：将前述蚀刻液的组分混匀，得到所述蚀刻液。

上述本发明提供的蚀刻液在蚀刻含钼和/或铝金属膜中的应用，也属于本发明的保护范围。

其中，构成所述含钼金属膜的材料由钼和下述元素中的至少一种组成：铬、铜、钨和铌；所述含钼金属膜中，钼的质量百分含量不小于80％；

构成所述含铝金属膜的材料由铝和下述元素中的至少一种组成：锌、铜、钕和硅；所述含铝金属膜中，铝的质量百分含量不小于80％。